[發明專利]真空鍍膜仿古銅生產工藝

無效

• 申請號: 201410022035.5
• 申請日: 2014-01-19
• 公開（公告）號: CN103741110A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 李飛;李蘭民
• 申請（專利權）人: 遵化市超越鈦金設備有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/32;C23C14/58
• 代理公司: 唐山永和專利商標事務所 13103
• 代理人: 張云和

技術領域

本發明涉及金屬表面處理工藝，具體涉及一種真空鍍膜仿古銅生產工藝。

背景技術

目前，仿古銅、青古銅制品的生產大多采用濕法電鍍和化學著色的方法，這些方法會產生對環境和人體嚴重有害的重金屬離子污染，并且耗水、耗電，還消耗大量貴金屬資源，生產成本高，工藝也較為復雜，在其應用中逐漸受到了限制；另外濕法電鍍和電化學著色方法生產的仿古銅、青古銅膜層表面光潔度較差、膜層與基體結合牢度較低，已經不能滿足高端用戶群體對更精美、更可靠的仿古銅、青古銅裝飾性膜層的要求。

真空鍍膜是一種高效環保的生產方式，它是在密閉的真空條件下，通過電弧離子鍍、磁控濺射等鍍膜方法，將金屬、化合物或其他鍍膜材料沉積到基材表面，形成一層或多層薄膜的加工技術。

發明內容

本發明旨在解決目前濕法電鍍和電化學著色生產仿古銅、青古銅制品存在的重金屬離子污染和高耗能耗材問題，而提供一種通過真空鍍膜的方法實現仿古銅、青古銅裝飾性表面處理，且表面光潔度更高、膜層結合力更強的仿古銅真空鍍膜工藝。

本發明解決所述問題采用的技術方案是：

一種真空鍍膜仿古銅生產工藝，包括基材表面清潔預處理，還包括以下步驟：

a.?真空鍍銅：對基材表面清潔處理過的工件進行磁控濺射或多弧離子鍍方法涂鍍紫銅/黃銅；

b.?表面發黑：對步驟a處理過的工件進行化學藥劑發黑，得到黑色表面薄層；

c.?膜層表面再處理：對步驟b處理過的工件表面的銅膜層進行手工或機械拉絲處理，露出部分底層紫銅或黃銅膜層，形成仿古條紋；

d.?有機涂料面涂：對步驟c處理過的工件表面涂覆有機涂料或進行抗指紋處理，然后在100-150℃下烘烤20-30分鐘，最終得到真空鍍膜復合膜層仿古銅制品。

采用上述技術方案的本發明，與現有技術相比，其有益效果是：

本發明采用磁控濺射或多弧離子鍍方法涂鍍紫銅/黃銅，屬于陰極放電的離子鍍技術，其中磁控濺射屬于高電壓小電流的輝光放電原理，成膜更細膩；多弧離子鍍屬于低電壓大電流的弧光放電原理，成膜速率快。這兩種方法都是清潔高效的真空鍍膜方法，不僅解決了重金屬離子污染和高耗能耗材的問題，而且大大提高了膜層表面光潔度和膜層的結合力，實現了高品質無污染的仿古銅裝飾膜層制品的生產，仿古銅、青古銅制品表面質感和視覺效果佳。

作為優選，本發明更進一步的技術方案是：

所述基材表面清潔預處理步驟是：使用有機溶劑配合碳酸鈣納米粉去除基材表面的油污及污垢；依次用清水和去離子水清洗；在200-230℃下恒溫烘烤90分鐘；待工件冷卻后擦去工件表面的碳酸鈣納米粉。

所述真空鍍銅方法是：將工件掛入真空設備的工件架上，抽真空至真空度高于2×10^-2?Pa后，工件架以3?r/min-6?r/min的速率轉動，調節節流閥，開啟氬氣及安裝有紫銅靶或黃銅靶的弧源，使用偏壓高檔對工件表面進行離子轟擊清洗，轟擊完成后偏壓調整至低檔，開始鍍制紫銅或黃銅膜層，鍍膜時間10-15分鐘。

所述表面發黑處理方法是：使用市售銅發黑劑，與水按比例混合后把工件浸入其中，以發黑液濃度不同，選擇浸泡時間1-3分鐘，得到黑色表層后取出工件用水洗凈烘干。

所述有機涂料是丙烯酸面漆。

具體實施方式

下面結合實施例對本發明作進一步說明，目的僅在于更好地理解本發明內容。因此，所舉之例并不限制本發明的保護范圍。

實施例1：一種真空鍍膜仿古銅生產工藝，以不銹鋼制品為例說明如下：

(1)對不銹鋼制品表面進行預處理：使用無水乙醇配合碳酸鈣納米粉對不銹鋼制品表面進行清潔，然后在200-230℃下恒溫烘烤90分鐘，之后取出工件待冷卻后擦去工件表面的碳酸鈣納米粉。

(2)真空鍍銅：將步驟(1)預處理完成的工件掛入真空設備的工件架上，抽真空至真空度高于2×10^-2?Pa后，工件架以3?r/min-6?r/min的速率轉動，調節節流閥至需要位置，開啟氬氣及安裝有鈦靶的弧源，使用偏壓高檔對工件表面進行離子轟擊清洗，轟擊完成后偏壓調整至低檔，開始鍍制紫銅膜層，鍍膜時間一般為10-15分鐘。

(3)?表面發黑處理：使用市面上常見銅發黑劑，與水按比例混合后把步驟(2)鍍膜完成的工件浸入其中，根據發黑液濃度不同大約等待1-3分鐘得到黑色表層后取出工件用水洗凈烘干。