[發(fā)明專利]納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼的制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410019404.5
• 申請日: 2014-01-16
• 公開（公告）號: CN103805827A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周高峰
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波金科磁業(yè)有限公司
• 主分類號: C22C33/02
• 分類號: C22C33/02;B22F3/16;B22F9/04;H01F1/057
• 代理公司: 寧波市鄞州甬致專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33228
• 代理人: 代忠炯

1.一種納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼的制作方法，它包括以下步驟：

????a、制作低釹磁性相，它包括以下步驟：

①、配料；按重量百分比為PrNd?20~30%，B?0.93~1.32%，Cu?0.05~0.3%，Ga?0.1~0.9%，?Tb?0.05~2.0%，Co?0.5~8%，Ti?0.1~1.5%，?Nb0.2~1.6%，余量為Fe的比例配料；

②、將步驟①配好的原材料進行甩片加工，形成鑄片；

③、將步驟②所得鑄片進行氫碎制粉，得到粒度為0.5mm以下的顆粒；

④、將步驟③氫碎好的粉料進行氣流磨制粉，粉料粒度磨到1.5~2um；并將制好的粉料浸在礦物油中備用；

b、制作納米富釹相，它包括以下步驟：

、配料；按重量百分比為：PrNd?25~35%，B?0.5~1%，Cu?0.01~1.0%，Dy?20~40%，?Co?30~40%，Ti?0.1~1.5%，?Nb0.2~1.6%，余量為Fe的比例配料；

、將步驟（1）配好的原材料進行甩片加工，得到非晶薄片；

、將步驟（2）所得非晶薄片進行氫碎制粉，得到粒度為0.5mm以下的顆粒；

、將步驟（3）氫碎好的粉料進行氣流磨制粉，粉料粒度磨到0.5~2.0um；

c、混料；將低釹磁性相粉料和納米富釹相粉料按比例進行混料；低釹磁性粉料:納米富釹相粉料=85~98:15~2；

d、將步驟c混合后的粉料進行成型壓制，得到成型產(chǎn)品；

e、將步驟d所得的成型產(chǎn)品進行脫油、脫氣、真空燒結(jié)；最終得到納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼的制作方法，其特征在于：所述的步驟a的步驟②中，將所述的配好的原材料裝入真空感應(yīng)熔煉爐，抽真空至0.05~0.1Pa，在氬氣保護下加熱到1700~1800℃，精煉4~6分鐘；然后澆注到旋轉(zhuǎn)的銅輪上進行冷卻澆注成鑄片，控制好冷卻水的溫度在20~30℃，鑄片厚度在0.3~0.5mm之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼的制作方法，其特征在于：所述的步驟a的步驟③中，將所述的鑄片裝入氫碎爐內(nèi)，抽真空0.05~0.1Pa，加熱到100~300℃，充入氫氣至氫碎爐內(nèi)，氣壓0.8~1.2atm，開始氫碎1.5~2.5小時；然后抽真空脫氫，脫氫溫度500~600℃，時間2~10小時，得到粒度為0.5mm以下的顆粒。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼的制作方法，其特征在于：所述的步驟a的步驟④中，氣流磨制粉時，磨粉壓力5~7atm，分級輪轉(zhuǎn)速：3000~4500rpm，進粉量30~40kg/h，氧含量10~40ppm，粒度磨到3~5um；再用球磨機粉碎到1.5~2um。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼的制作方法，其特征在于：所述的步驟b的步驟（2）中，將所述的原材料裝入真空感應(yīng)非晶甩帶爐，抽真空至0.05~0.1Pa，在氬氣的保護下加熱到1700~1800℃，精煉4~6分鐘；然后澆注到高速旋轉(zhuǎn)的銅輪上，得到非晶薄片，控制好冷卻水的溫度在20~30℃，鑄片厚度在0.15~0.25毫米之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼的制作方法，其特征在于：所述的步驟b的步驟（3）中，將所述的鑄片裝入氫碎爐內(nèi)，抽真空0.05~0.1Pa，加熱到100~300℃，充入氫氣至氫碎爐內(nèi)，氣壓0.8~1.2atm，開始氫碎1.5~2.5小時；然后抽真空脫氫，脫氫溫度500~600℃、時間2~10小時。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼的制作方法，其特征在于：所述的步驟b的步驟（4）中，氣流磨制粉時，磨粉壓力4~7atm，分級輪轉(zhuǎn)速：3000~4500rpm，進粉量30~40kg/h，氧含量10~40ppm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼的制作方法，其特征在于：在步驟d中，將所述的粉料在磁場中開放成型，磁場強度17000~25000奧斯特，充磁三到五次取向；將成型后的產(chǎn)品再經(jīng)等靜壓200~260MPa提高密度。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米非晶低釹復(fù)相釹鐵硼的制作方法，其特征在于：在步驟e中，真空燒結(jié)時，真空度：0.01~0.04Pa、溫度：1020~1120℃，時間：280~320分鐘；再進行時效處理：一級時效：800~930℃x120-240分鐘；二級時效：460~600℃x120-360分鐘。