[發明專利]一種曲面展開成像裝置及方法在審
| 申請號： | 201410018864.6 | 申請日： | 2014-01-16 |
| 公開（公告）號： | CN104796631A | 公開（公告）日： | 2015-07-22 |
| 發明（設計）人： | 楊大華;宗德祥;蔣渝;何永輝 | 申請（專利權）人： | 寶山鋼鐵股份有限公司 |
| 主分類號： | H04N5/335 | 分類號： | H04N5/335;G02B6/08 |
| 代理公司： | 上海集信知識產權代理有限公司 31254 | 代理人： | 周成;肖祎 |
| 地址： | 201900 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 曲面 展開 成像 裝置 方法 | ||
1.一種曲面展開成像裝置，其特征在于包含：
一組自聚焦光纖陣列，是由多數根自聚焦光纖按照待測曲面的形狀相對應組合的線性排列，使各單根自聚焦光纖的頭部與待測曲面的相對距離保持一致，每根自聚焦光纖的頭部固定有聚焦光線的透鏡及成像用光源，每根自聚焦光纖將其對應的待測曲面的聚焦范圍部分的反射光吸收進光纖，并進行傳導；
相機，是帶有CCD圖像傳感器的相機，CCD圖像傳感器的靶面像素個數大于自聚焦光纖陣列中自聚焦光纖的根數，CCD圖像傳感器的靶面像素與所述自聚焦光纖陣列中的多數根自聚焦光纖對應相連，CCD圖像傳感器將自聚焦光纖陣列傳遞來的反射光信號轉換成圖像信號，并由相機中的成像處理器將待測曲面展開成平面成像。
2.如權利要求1所述的曲面展開成像裝置，其特征在于：
所述自聚焦光纖陣列的排列密度由成像所需的分辨率決定，所需的分辨率高，排列密度密，反之，則排列密度疏。
3.如權利要求1所述的曲面展開成像裝置，其特征在于：
所述單根自聚焦光纖的光源是環形發光光源。
4.一種曲面展開成像方法，其特征在于包含以下步驟：
S1，利用一組線性排列的自聚焦光纖陣列吸收待測曲面上的反射光，并進行傳導：
自聚焦光纖陣列是由多數根自聚焦光纖按照待測曲面的形狀相對應組合的線性排列，使各單根自聚焦光纖的頭部與待測曲面的相對距離保持一致，每根自聚焦光纖的頭部固定有聚焦光線的透鏡及成像用光源，每根自聚焦光纖將其對應的待測曲面的聚焦范圍部分的反射光吸收進光纖，并進行傳導；
S2，利用帶有CCD圖像傳感器的相機將自聚焦光纖陣列傳導的反射光信號轉換成圖像信號，并由相機中的成像處理器將待測曲面展開成平面成像：
CCD圖像傳感器的靶面像素個數大于自聚焦光纖陣列中自聚焦光纖的根數，CCD圖像傳感器的靶面像素與所述自聚焦光纖陣列中的多數根自聚焦光纖對應相連，CCD圖像傳感器將自聚焦光纖陣列傳遞來的反射光信號轉換成圖像信號，并由相機中的成像處理器將待測曲面展開成平面成像。
5.如權利要求4所述的曲面展開成像方法，其特征在于：
所述自聚焦光纖陣列的排列密度由成像所需的分辨率決定，所需的分辨率高，排列密度密，反之，則排列密度疏。
6.如權利要求4所述的曲面展開成像方法，其特征在于：
所述單根自聚焦光纖的光源是環形發光光源。
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