[發(fā)明專利]照明光學(xué)設(shè)備、曝光設(shè)備、照明方法、曝光方法和裝置制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410018301.7
• 申請日: 2008-10-23
• 公開（公告）號: CN103777363B
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 谷津修
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G02B27/28
• 分類號: G02B27/28;G02B27/09;G02B26/08;G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所11256
• 代理人: 陳偉

1.一種照明光學(xué)設(shè)備，使照明光對于形成有圖案的掩膜進行照明，所述照明光學(xué)設(shè)備的特征在于包括：

空間光調(diào)制器，含有：沿預(yù)定表面布置且設(shè)置在所述照明光的光路中的多個反射表面，對于所述多個反射表面進行個別控制，使所述照明光分布于所述照明光學(xué)設(shè)備的照明光瞳；

分光器，配置于所述空間光調(diào)制器的入射側(cè)的所述照明光的光路中，使所述多個反射表面的所述照明光的強度進行均勻化，所述分光器將所述照明光分為第1光束和第2光束；以及

偏振單元，配置于所述分光器與所述空間光調(diào)制器之間的所述照明光的光路中，將以線性偏振光作為主成分的所述照明光的偏振狀態(tài)，從以偏振方向為預(yù)定一方向的線性偏振光作為主成分的偏振狀態(tài)、變換成含有偏振方向為互相不同的第1線性偏振光與第2線性偏振光的偏振狀態(tài)；

所述偏振單元包括將所述第1光束變換為以所述第1線性偏振光為主成分的偏振狀態(tài)的第1偏振單元和將所述第2光束變換為以所述第2線性偏振光為主成分的偏振狀態(tài)的第2偏振單元，

所述空間光調(diào)制器包括第一空間光調(diào)制器和第二空間光調(diào)制器，所述第一空間光調(diào)制器以使來自所述第1偏振單元的所述照明光中的所述第1光束在所述照明光瞳中夾著所述照明光學(xué)設(shè)備的光軸而在第1方向上對稱分布的方式反射所述第1光束，所述第二空間光調(diào)制器以使來自所述第2偏振單元的所述照明光中的所述第2光束在所述照明光瞳中夾著所述照明光學(xué)設(shè)備的光軸而在第2方向上對稱分布的方式反射所述第2光束，所述第2方向是與所述第1方向正交的方向。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，其特征在于，

所述偏振單元以使所述第1光束及所述第2光束分別在所述照明光瞳中成為圓周偏振狀態(tài)的方式，而變換來自所述分光器的所述照明光的偏振狀態(tài)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，其特征在于，

所述第1偏振單元包含半波片或光學(xué)旋轉(zhuǎn)器。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，其特征在于，

所述第2偏振單元包含半波片或光學(xué)旋轉(zhuǎn)器。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，其特征在于，

所述第1偏振單元及所述第2偏振單元的至少一方能夠用具有相同路徑長度的玻璃基底來替換。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，其特征在于，

含有能夠在所述偏振單元的入射側(cè)的所述照明光的光路中改變所述照明光的偏振狀態(tài)的偏振控制部件。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的照明光學(xué)設(shè)備，其特征在于，

所述偏振控制部件含有半波片，該半波片被設(shè)置成能夠相對于與所述光軸平行的軸旋轉(zhuǎn)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)設(shè)備，其特征在于，

還包括配置在來自所述空間光調(diào)制器的所述照明光的光路中的蠅眼透鏡，

所述蠅眼透鏡以該蠅眼透鏡的后側(cè)焦點位置與所述照明光瞳一致的方式，設(shè)置于所述光路中。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的照明光學(xué)設(shè)備，其特征在于，

還包括透鏡系統(tǒng)，該透鏡系統(tǒng)配置在所述空間光調(diào)制器與所述蠅眼透鏡之間的所述照明光的光路中，用以使所述空間光調(diào)制器與所述蠅眼透鏡的入射表面配置成傅立葉變換的關(guān)系。

10.一種曝光設(shè)備，將形成在掩膜的圖案曝光到基板，所述曝光設(shè)備的特征在于包括：

能夠移動的臺，支持所述基板；

權(quán)利要求1到9中任一權(quán)利要求所述的照明光學(xué)設(shè)備，對所述圖案進行照明；以及

投影光學(xué)系統(tǒng)，將使用所述照明光學(xué)設(shè)備而被照明的所述圖案的像，形成到被支持在所述臺的所述基板上。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的曝光設(shè)備，其特征在于，

所述照明光學(xué)設(shè)備的所述照明光瞳與所述投影光學(xué)系統(tǒng)的入射光瞳配置在互相共軛的位置。

12.一種裝置制造方法，其特征在于包括：

使用權(quán)利要求10所述的曝光設(shè)備，將被形成在掩膜的圖案曝光到基板上；以及

使所述圖案被曝光的所述基板進行顯影。