[發(fā)明專利]用于切削刀具的涂層

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410018083.7
• 申請日: 2014-01-15
• 公開（公告）號: CN103966571B
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發(fā)明（設計）人: V·索特凱;D·倫克;H·韋斯特法爾;H·范登伯格;P·萊希特;M·格林菲爾德;Y·劉
• 申請（專利權(quán)）人: 鈷碳化鎢硬質(zhì)合金公司
• 主分類號: C23C16/40
• 分類號: C23C16/40;C23C16/34;B32B15/04;B32B9/04
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 葛青,盧亞靜

1.一種涂覆的切削刀具，包括：

一個基底；以及

一個粘附到該基底上的涂層，該涂層包括至少一個通過化學氣相沉積而沉積的復合層，該復合層包括一個氧氮化鋁相和一個金屬氧化物相，該金屬氧化物相包括至少一種選自周期表的第IVB族的金屬元素的氧化物，并且其中，該金屬氧化物相是分散在該氧氮化鋁相中的。

2.如權(quán)利要求1所述的涂覆的切削刀具，其中，該金屬氧化物相包括ZrO₂、HfO₂、或它們的混合體。

3.如權(quán)利要求1所述的涂覆的切削刀具，除了該氧氮化鋁相和金屬氧化物相之外進一步包括一個金屬氧氮化合物相，該金屬氧氮化合物相包括至少一種選自周期表的第IVB族的金屬元素的氧氮化合物。

4.如權(quán)利要求3所述的涂覆的切削刀具，其中，該金屬氧氮化合物相包括TiON。

5.如權(quán)利要求3所述的涂覆的切削刀具，其中，該金屬氧化物相和該金屬氧氮化合物相是分散在該氧氮化鋁相中的。

6.如權(quán)利要求1所述的涂覆的切削刀具，其中，該氧氮化鋁相包括六方結(jié)晶結(jié)構(gòu)、立方結(jié)晶結(jié)構(gòu)、或者非晶相結(jié)構(gòu)或者它們的混合體。

7.如權(quán)利要求1所述的涂覆的切削刀具，其中，該氧氮化鋁相包括量為20到50原子百分比的鋁、量為40到70原子百分比的氮、以及量為1到20原子百分比的氧。

8.如權(quán)利要求1所述的涂覆的切削刀具，其中，該氧氮化鋁相在該復合層中存在的量為80體積百分比到99體積百分比。

9.如權(quán)利要求1所述的涂覆的切削刀具，其中，該金屬氧化物相包括立方、單斜或四方結(jié)晶結(jié)構(gòu)或者它們的混合體。

10.如權(quán)利要求1所述的涂覆的切削刀具，其中，該涂層進一步包括在該復合層與該基底之間的一個或多個內(nèi)層。

11.如權(quán)利要求10所述的涂覆的切削刀具，其中，該一個或多個內(nèi)層包括選自鋁和周期表的第IVB族、第VB族和第VIB族的金屬元素構(gòu)成的組中的一種或多種金屬元素以及選自周期表的第IIIA族、第IVA族、第VA族和第VIA族的非金屬元素構(gòu)成的組中的一種或多種非金屬元素。

12.如權(quán)利要求10所述的涂覆的切削刀具，其中，該一個或多個內(nèi)層包括選自鋁和周期表的第IVB族、第VB族和第VIB族的金屬元素組成的組中的金屬元素的碳化物、氮化物、碳氮化物、氧化物或硼化物。

13.如權(quán)利要求1所述的涂覆的切削刀具，其中，該涂層進一步包括在該復合層上的一個或多個外層。

14.如權(quán)利要求13所述的涂覆的切削刀具，其中，該一個或多個外層包括選自鋁和周期表的第IVB族、第VB族和第VIB族的金屬元素構(gòu)成的組中的一種或多種金屬元素以及選自周期表的第IIIA族、第IVA族、第VA族和第VIA族的非金屬元素構(gòu)成的組中的一種或多種非金屬元素。

15.如權(quán)利要求1所述的涂覆的切削刀具，其中，該涂層進一步包括：在該基底與該復合層之間的一個或多個內(nèi)層，一個內(nèi)層包括選自鋁和周期表的第IVB族、第VB族和第VIB族的金屬元素構(gòu)成的組中的一種或多種金屬元素以及選自周期表的第IIIA族、第IVA族、第VA族和第VIA族的非金屬元素構(gòu)成的組中的一種或多種非金屬元素；以及在該復合層上的一個或多個外層，一個外層包括選自鋁和周期表的第IVB族、第VB族和第VIB族的金屬元素構(gòu)成的組中的一種或多種金屬元素以及選自周期表的第IIIA族、第IVA族、第VA族和第VIA族的非金屬元素構(gòu)成的組中的一種或多種非金屬元素。

16.如權(quán)利要求1所述的涂覆的切削刀具，其中，該基底是基于Si₃N₄、Al₂O₃、或ZrO₂或它們的混合物的燒結(jié)碳化物、金屬陶瓷、或者陶瓷。

17.一種制造涂覆的切削刀具的方法，包括：

提供一個基底；并且

在該基底上通過化學氣相沉積而沉積一個涂層的至少一個復合層，該復合層包括一個氧氮化鋁相和一個金屬氧化物相，該金屬氧化物相包括至少一種選自周期表的第IVB族的金屬元素的氧化物，并且其中，該金屬氧化物相是分散在該氧氮化鋁相中的。