[發(fā)明專(zhuān)利]大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀精度標(biāo)定方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410016120.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-01-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103727962A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉巖俊;閆海霞 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01C25/00 | 分類(lèi)號(hào): | G01C25/00 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)春菁華專(zhuān)利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210 | 代理人: | 陶尊新 |
| 地址: | 130033 吉*** | 國(guó)省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 視場(chǎng) 紅外 光電 經(jīng)緯儀 精度 標(biāo)定 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光電測(cè)控領(lǐng)域,具體涉及一種大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀精度標(biāo)定方法,在光電經(jīng)緯儀精度檢測(cè)中,可用于提高大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀的測(cè)角精度。在外場(chǎng)測(cè)試試驗(yàn)中,可用于提高目標(biāo)的外彈道軌跡坐標(biāo)。
背景技術(shù)
在導(dǎo)彈、航天器發(fā)射試驗(yàn)過(guò)程中,火箭的飛行彈道和衛(wèi)星軌道等反映試驗(yàn)情況的數(shù)據(jù),大多數(shù)是由無(wú)線(xiàn)電和光學(xué)外測(cè)設(shè)備通過(guò)測(cè)量獲得的,這些外測(cè)設(shè)備的測(cè)量精度,標(biāo)志著我國(guó)導(dǎo)彈、衛(wèi)星等航天器試驗(yàn)的測(cè)控水平。由于測(cè)量數(shù)據(jù)及精度分析對(duì)導(dǎo)彈、衛(wèi)星等航天器的研制、定型和改進(jìn)密切相關(guān),因此國(guó)內(nèi)各相關(guān)單位對(duì)外測(cè)設(shè)備的精度鑒定工作都十分重視。而光電經(jīng)緯儀是靶場(chǎng)光電測(cè)量的主要設(shè)備,光電測(cè)量設(shè)備主要通過(guò)角度測(cè)量、交會(huì)處理完成被測(cè)目標(biāo)空間定位的,進(jìn)一步計(jì)算目標(biāo)的外彈道參數(shù)數(shù)據(jù)。測(cè)角誤差的大小直接影響定位精度,因此對(duì)測(cè)角誤差的來(lái)源、影響和檢測(cè)方法的研究是光電經(jīng)緯儀的重要研究?jī)?nèi)容之一。波長(zhǎng)為3μm~5μm的中波紅外相機(jī)是目前最常用的紅外相機(jī),通過(guò)目標(biāo)與背景之間的熱輻射差別來(lái)識(shí)別目標(biāo)。相對(duì)于雷達(dá)等探測(cè)設(shè)備來(lái)說(shuō),具備隱蔽,抗干擾、高精度等優(yōu)點(diǎn)。目前紅外已經(jīng)成為各國(guó)大力發(fā)展的研究?jī)?nèi)容。紅外相機(jī)由于其作用距離明顯超過(guò)可見(jiàn)光相機(jī),目前已經(jīng)逐漸成為光電經(jīng)緯儀的主要探測(cè)器。由于紅外成像機(jī)制原因,主要通過(guò)熱原理成像,在用于測(cè)量任務(wù)時(shí),會(huì)影響其測(cè)量精度。
對(duì)于大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀的精度檢測(cè)研究在國(guó)內(nèi)還未見(jiàn)報(bào)道。主要原因是光學(xué)誤差對(duì)大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀的測(cè)角精度影響較大,而且紅外相機(jī)用于位置測(cè)量的內(nèi)容也不多。因此,紅外光電經(jīng)緯儀的精度檢測(cè)一直是光電測(cè)控領(lǐng)域的難點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決目前由于加工與裝調(diào)過(guò)程中引入的誤差,并且該誤差與光學(xué)設(shè)計(jì)值不完全一致,從而導(dǎo)致大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀光電測(cè)量精度低的問(wèn)題,提供一種大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀精度標(biāo)定方法。
大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀精度標(biāo)定方法,該方法由以下步驟實(shí)現(xiàn):
步驟一、標(biāo)定檢測(cè)架;采用高精度萊卡經(jīng)緯儀,測(cè)量三個(gè)平行光管的角度值,所述平行光管的角度值為標(biāo)定三個(gè)平行光管的正倒鏡數(shù)據(jù),并取獲得的三個(gè)正倒鏡數(shù)據(jù)的平均值作為真值;
步驟二、模型數(shù)據(jù)的采集;調(diào)整紅外光電經(jīng)緯儀,使紅外光電經(jīng)緯儀的中心位于三個(gè)平行光管的正交中心,所述紅外光電經(jīng)緯儀在全視場(chǎng)內(nèi)對(duì)目標(biāo)進(jìn)行數(shù)據(jù)采集,并將獲得的每幀圖像對(duì)應(yīng)的脫靶量數(shù)據(jù)作為建立模型的數(shù)據(jù);
步驟三、建立標(biāo)定模型;采用步驟一獲得的真值及步驟二獲得的每幀圖像的脫靶量數(shù)據(jù)按區(qū)域進(jìn)行線(xiàn)性擬合,分別計(jì)算每個(gè)區(qū)域的脫靶量數(shù)據(jù)的多元線(xiàn)性回歸線(xiàn)系數(shù);
步驟四、精度檢測(cè);采用紅外經(jīng)緯儀對(duì)全視場(chǎng)多個(gè)點(diǎn)進(jìn)行靜態(tài)測(cè)量;獲得每幀圖像對(duì)應(yīng)的脫靶量信息,將每幀圖像對(duì)應(yīng)的脫靶量信息使用該區(qū)域的多元回歸模型修正后,獲得修正的脫靶量數(shù)據(jù),然后將修正后的脫靶量數(shù)據(jù)進(jìn)行解算,獲得測(cè)角的均方根值,實(shí)現(xiàn)光電經(jīng)緯儀精度的標(biāo)定。
本發(fā)明的有益效果:本方法采用數(shù)學(xué)的多元回歸分析方法,對(duì)測(cè)量數(shù)據(jù)建立標(biāo)定模型,在精度檢測(cè)過(guò)程中,使用該標(biāo)定模型修正脫靶量,將修正后的脫靶量用于精度測(cè)量。該方法有效地提高了大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀的測(cè)量精度。本發(fā)明將多元回歸分析方法用于脫靶量的修正,從而將觀測(cè)值與回歸值之間的殘差平方和最小,提高回歸精度。將大視場(chǎng)進(jìn)行分區(qū)處理,對(duì)每個(gè)分區(qū)進(jìn)行多元回歸分析計(jì)算,有利于提高計(jì)算精度,從而間接提高測(cè)角精度。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明所述的大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀精度標(biāo)定方法中檢測(cè)架相對(duì)位置示意圖。
具體實(shí)施方式
具體實(shí)施方式一、結(jié)合圖1說(shuō)明本實(shí)施方式,大視場(chǎng)紅外光電經(jīng)緯儀精度標(biāo)定方法,該方法由以下步驟實(shí)現(xiàn):
一、標(biāo)定檢測(cè)架;檢測(cè)架標(biāo)定在室內(nèi)的裝校標(biāo)校車(chē)間完成的,需要將經(jīng)緯儀放置于檢測(cè)平臺(tái)后工作,標(biāo)定系統(tǒng)包括穩(wěn)定平臺(tái)、紅外光電經(jīng)緯儀、大口徑平行光管、檢測(cè)架、0.5"萊卡經(jīng)緯儀等系統(tǒng)。將檢測(cè)平臺(tái)調(diào)整穩(wěn)定后,使用0.5"萊卡經(jīng)緯儀對(duì)方位角0°、俯仰角0°的1#光管,方位角90°、俯仰角0°的5#光管以及方位角90°、俯仰角65°的6#光管進(jìn)行標(biāo)定;所述標(biāo)定值作為計(jì)算真值。標(biāo)定數(shù)據(jù)包括三次正倒鏡數(shù)據(jù),然后以三次數(shù)據(jù)的平均值作為真值。同時(shí),使用0.5"萊卡經(jīng)緯儀的標(biāo)定三個(gè)光管的正倒鏡數(shù)據(jù),用于計(jì)算系統(tǒng)誤差,即零位差、照準(zhǔn)差、橫軸差。系統(tǒng)誤差用于真值修正。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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