[發明專利]掩模

有效

• 申請號: 201410015576.5
• 申請日: 2014-01-14
• 公開（公告）號: CN104141106B
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發明（設計）人: 韓政洹
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 劉燦強;王占杰

本發明公開了一種掩模，所述掩模包括：板狀的主體，包括開口；以及修整部分，包括從板狀的主體沿第一方向突出并沿第二方向縱向地延伸的至少一個第一彎曲部分。

技術領域

示例性實施例涉及制造技術，更具體地說，涉及一種掩模。

背景技術

精細金屬掩模（FMM）是一種用于在相對大的基板上沉積有機材料的掩模。為了利用沉積工藝來制造有機發光顯示裝置，通常將精細金屬掩模（FMM）圖案化為具有與將要在基板上沉積為薄膜等的期望圖案相同的圖案。

傳統地，例如，已經通過諸如金屬蝕刻工藝，激光工藝、光刻工藝、電成型工藝等的各種方法來制造FMM。另外，通常通過在平面上設置圖案來制造FMM。此外，制造的FMM通常受拉并焊接在掩模框上拉，以在沉積工藝中使用。作為向FMM施加拉拉力的結果，FMM的總厚度通常比在受拉之前的厚度小。這樣，在執行上述受拉焊接工藝之后執行清潔工藝時，FMM可能由于至少部分地由FMM的厚度減小而導致的耐久性減小而被破壞或損壞。為此，隨著FMM的尺寸增大，與厚度和耐久性的減小相關的問題加劇。

該背景技術部分中公開的上述信息僅用于增強對本發明的背景技術的理解，因此，它可能包含未形成在本國中本領域普通技術人員已經了解的現有技術的信息。

發明內容

示例性實施例提供了一種被構造為防止在以受拉狀態結合到框架時厚度減小的掩模。

附加方面將在下面的詳細描述中闡述，并且部分地將通過本公開而清楚，或者可以通過本發明的實施而了解。

根據示例性實施例，一種掩模包括：板狀的主體，包括開口；修整部分，包括從板狀的主體沿第一方向突出并且沿第二方向縱向地延伸的至少一個第一彎曲部分。

根據示例性實施例，一種掩模包括：板狀的主體，包括開口；修整部分，包括從板狀的主體突出的突起。突起被設置為圖案。

根據示例性實施例，雖然掩模可以被拉緊，但是掩模的修整部分可以被拉伸，這樣，掩模的長度和/或寬度可以被修整，但是掩模的厚度可以不減小，而是基本得以保持。這樣，整個掩模的厚度基本保持為具有與初始厚度幾乎相同的厚度，并且以這種方式，耐久性增加。為此，能夠防止（或減少）由于在受拉焊接工藝、沉積工藝和/或清潔工藝期間掩模的耐久性問題而導致的損壞或破壞。掩模的耐久性的增加還增加了掩模在制造工藝期間的使用時間。對于有機發光二極管顯示裝置，這還可以起到降低制造成本的作用，這反過來可以降低消費者的花費。

根據示例性實施例，當掩模被拉緊焊接時，即使可以將相對大量的拉力施加到掩模，掩模也具有對施加的外力的抵抗力。這樣，即使掩模的長度和/或寬度可以增大來制造大面積的有機發光二極管顯示器，掩模的總體形狀也可以穩定地保持。按這種方式，掩模在例如沉積工藝過程中的可靠性可以得到保持。

前面的總體描述以及下面的詳細描述是示例性的和解釋性的，并且意圖提供對要求保護的本發明的進一步的解釋。

附圖說明

包括附圖來提供對本發明的進一步理解，并且附圖包含在說明書中并構成本說明書的一部分，附圖示出了本發明的示例性實施例，并與描述一起用于解釋本發明的原理。

圖1是根據示例性實施例的掩模的透視圖。

圖2是根據示例性實施例的圖1的掩模中的修整后的開口的透視圖。

圖3中的(A)是根據示例性實施例的沿剖面線A-A'截取的圖2的掩模的剖視圖。

圖3中的(B)至圖3中的(E)分別是根據示例性實施例的示意性掩模的各種其它修整（modified）部分的剖視圖。

圖4中的(A)至圖4中的(E)分別是根據示例性實施例的示意性掩模的各種其它修整部分的剖視圖。