[發明專利]樹脂組合物、固化膜、其形成方法、半導體元件及顯示元件

有效

• 申請號: 201410015553.4
• 申請日: 2014-01-14
• 公開（公告）號: CN103923426B
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發明（設計）人: 三島繪里;西村幸生;下川努;八代隆郎
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: C08L33/16
• 分類號: C08L33/16;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/039;G02F1/13
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉激揚

1.一種固化膜形成用熱固化性樹脂組合物，其含有[A1]具有結構單元(I)、結構單元(II-1)和結構單元(IV)的聚合物，該結構單元(I)為從由下述式(I-3)～(I-6)、(I-8)～(I-15)表示的結構單元組成的組中選出的至少一種，該結構單元(II-1)包含從由環氧乙烷基以及氧雜環丁基組成的組中選出的至少一種交聯性基團(a1)，該結構單元(IV)為從下述式(IV-2)～(IV-4)、(IV-6)、(IV-8)～(IV-10)中選出的至少一種，

式(I-3)～(I-6)、(I-8)～(I-15)中，R各自獨立地為氫原子或甲基；

上述式(IV-2)～(IV-4)、(IV-6)、(IV-8)～(IV-10)中，R⁹是氫原子、甲基或三氟甲基，R^M是氫原子或甲基，s是1～10的整數。

2.一種負型射線敏感性樹脂組合物，其含有：

[A2]具有結構單元(I)、結構單元(II-2)和結構單元(IV)的聚合物，該結構單元(I)為從由下述式(I-3)～(I-6)、(I-8)～(I-15)表示的結構單元組成的組中選出的至少一種，該結構單元(II-2)包含交聯性基團(a2)，上述交聯性基團(a2)為從由環氧乙烷基、氧雜環丁基以及環狀碳酸酯基組成的組中選出的至少一種，該結構單元(IV)為從下述式(IV-2)～(IV-4)、(IV-6)、(IV-8)～(IV-10)中選出的至少一種；

[B]具有烯屬不飽和鍵的聚合性化合物；以及

[C]射線敏感性聚合引發劑，

式(I-3)～(I-6)、(I-8)～(I-15)中，R各自獨立地為氫原子或甲基；

上述式(IV-2)～(IV-4)、(IV-6)、(IV-8)～(IV-10)中，R⁹是氫原子、甲基或三氟甲基，R^M是氫原子或甲基，s是1～10的整數。

3.根據權利要求2所述的負型射線敏感性樹脂組合物，其中，[C]射線敏感性聚合引發劑為肟酯化合物，該肟酯化合物的含量相對于100質量份[A2]聚合物為0.1質量份以上10質量份以下。

4.根據權利要求2所述的負型射線敏感性樹脂組合物，其進一步含有[D]抗氧化劑。

5.根據權利要求2所述的負型射線敏感性樹脂組合物，其中，[B]聚合性化合物在同一分子內具有至少一個羧基。

6.一種正型射線敏感性樹脂組合物，其含有：

[A3]具有結構單元(I)、結構單元(II-3)和結構單元(IV)的聚合物，該結構單元(I)為從由下述式(I-3)～(I-15)表示的結構單元組成的組中選出的至少一種，該結構單元(II-3)具有環狀醚結構，該環狀醚結構是環氧乙烷結構以及氧雜環丁烷結構之中的至少一種，該結構單元(IV)為從下述式(IV-2)～(IV-4)、(IV-6)、(IV-8)～(IV-10)中選出的至少一種；以及

[G]酸產生體，

式(I-3)～(I-15)中，R各自獨立地為氫原子或甲基；

上述式(IV-2)～(IV-4)、(IV-6)、(IV-8)～(IV-10)中，R⁹是氫原子、甲基或三氟甲基，R^M是氫原子或甲基，s是1～10的整數。

7.一種固化膜的形成方法，其具有如下工序：

(1)使用權利要求1所述的固化膜形成用熱固化性樹脂組合物，在基板上形成涂膜的工序，以及

(2)將上述涂膜進行加熱的工序。

8.一種固化膜的形成方法，其具有如下工序：

(1)使用權利要求2所述的負型射線敏感性樹脂組合物、或權利要求6所述的正型射線敏感性樹脂組合物，在基板上形成涂膜的工序，

(2)對上述涂膜的一部分照射射線的工序，

(3)將上述照射了射線的涂膜進行顯影的工序，以及

(4)將上述顯影后的涂膜進行加熱的工序。