[發(fā)明專利]蝕刻液及其制備方法與應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410015519.7
• 申請日: 2014-01-14
• 公開（公告）號: CN103755147A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 梁曉;唐洪;田博
• 申請（專利權(quán)）人: 清華大學(xué)
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245
• 代理人: 關(guān)暢

1.一種蝕刻液組合物，包括如下各組分：式I所示磺酸類化合物、草酸、甲叉膦酸鹽類絡(luò)合物和水；

式I

所述式I中，R₁為-CH₂-、-C₂H₄-、-C₃H₆-或-C₄H₈-。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其特征在于：所述蝕刻液組合物由所述式I所示磺酸類化合物、草酸、甲叉膦酸鹽類絡(luò)合物和水組成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的組合物，其特征在于：所述甲叉膦酸鹽類絡(luò)合物選自式II所示氨基三甲叉膦酸四鈉、式III所示乙二胺四甲叉膦酸五鈉和式IV所示二乙烯三胺五甲叉膦酸七鈉中的至少一種；

式II

式III

式IV。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的組合物，其特征在于：所述式I所示磺酸類化合物為乙二磺酸。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一所述的組合物，其特征在于：所述水為去離子水，所述水中的總金屬離子濃度不大于500納克/升，具體為不大于50納克/升。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的組合物，其特征在于：所述蝕刻液組合物為由如下各質(zhì)量百分含量的組分組成：

式I所示磺酸類化合物：0.5-10%；

草酸：1-15%；

甲叉膦酸鹽類絡(luò)合物：0.1-5%；

余量為水。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的組合物，其特征在于：所述蝕刻液組合物為由如下各質(zhì)量百分含量的組分組成：

式I所示磺酸類化合物：1-5%；

草酸：2-8%；

甲叉膦酸鹽類絡(luò)合物：0.5-3%；

余量為水。

8.一種制備權(quán)利要求1-7任一所述蝕刻液組合物的方法，包括如下步驟：將權(quán)利要求1-7任一所述各組分于20-30℃混勻，得到所述蝕刻液組合物。

9.權(quán)利要求1-7任一所述蝕刻液組合物在蝕刻導(dǎo)電膜中的應(yīng)用。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的應(yīng)用，其特征在于：所述導(dǎo)電膜為ITO膜。