[發(fā)明專利]一種基于多模式的恒虛警目標(biāo)檢測方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410013104.6
• 申請日: 2014-01-10
• 公開（公告）號: CN103760543A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郭云飛;周森山;彭冬亮;駱吉安;鄭曉楓;唐學(xué)大
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州電子科技大學(xué)
• 主分類號: G01S7/41
• 分類號: G01S7/41;G06F19/00
• 代理公司: 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200
• 代理人: 杜軍

1.一種基于多模式的恒虛警目標(biāo)檢測方法，其特征在于包括以下步驟：

步驟1、建立均勻分布和非均勻分布雜波背景模型；

步驟2、建立與雜波背景區(qū)域相應(yīng)的模型集；

步驟3、將多模式恒虛警參考窗劃分為左右兩個參考窗；

步驟4、根據(jù)模型集M進(jìn)行權(quán)值計算，根據(jù)權(quán)值比重大小進(jìn)行相應(yīng)的恒虛警處理；

步驟5、計算門限系數(shù)B₀、B₁，根據(jù)CA-CFAR和CMLD-CFAR兩者的權(quán)值得到檢測概率表達(dá)式，得出檢測概率P_d。

2.如權(quán)利要求1所述的一種基于多模式的恒虛警目標(biāo)檢測方法，其特征在于步驟1所述的建立均勻分布和非均勻分布雜波背景模型，具體如下：

1-1.建立瑞利均勻分布，瑞利均勻分布對應(yīng)均勻分布雜波背景，其概率密度函數(shù)表達(dá)式為：

f(x)=xσ2exp(-x22σ2),x≥0---(1)]]>

式中，x為雜波回波的包絡(luò)幅度，σ為瑞利分布參數(shù)；

1-2.建立K分布，K分布是一種有兩個參數(shù)概率分布的雜波分布統(tǒng)計模型，由一個快變調(diào)制分量和一個慢變調(diào)制分量組成，其概率密度函數(shù)表達(dá)式為：

F(x)=2bΓ(v)(bx2)vKv-1(bx)---(2)]]>

其中，v為形狀參數(shù)，決定了雜波分布的特征；b為尺度參數(shù)，受雜波分布中值與雷達(dá)反射截面積影響；Γ(·)為伽瑪函數(shù)，K_v-1為修正貝塞爾函數(shù)。

3.如權(quán)利要求1所述的一種基于多模式的恒虛警目標(biāo)檢測方法，其特征在于步驟2所述的建立與雜波背景區(qū)域相應(yīng)的模型集，具體如下：

P{M¹(k)|Z(k)}+P{M²(k)|Z(k)}＝1????(3)

其中M＝{M¹,M²}表示雜波的模型集，M¹表示均勻雜波背景，M²表示非均勻雜波背景，Z(k)表示在k時刻的量測集。