[發明專利]一種基于多模式的變化指數恒虛警目標檢測方法

有效

• 申請號: 201410012104.4
• 申請日: 2014-01-10
• 公開（公告）號: CN103760542A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發明（設計）人: 郭云飛;周森山;薛安克;劉俊;唐學大;鄭曉楓
• 申請（專利權）人: 杭州電子科技大學
• 主分類號: G01S7/41
• 分類號: G01S7/41;G01S7/36
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 杜軍

1.一種基于多模式的變化指數恒虛警目標檢測方法，其特征在于包括以下步驟：

步驟1.分別建立均勻雜波背景、雜波邊緣背景和非均勻多目標背景模型；

步驟2.建立與雜波背景區域相應的模型集；

步驟3.將參考窗分為左參考窗口、右參考窗口、全參考窗口三個參考窗；

步驟4.根據模型進行權值計算，根據權值大小進行相應的恒虛警處理。

2.如權利要求所述的一種基于多模式的變化指數恒虛警目標檢測方法，其特征在于步驟1所述的建立均勻雜波背景、雜波邊緣背景和非均勻多目標背景模型，具體如下：

1-1.建立瑞利均勻分布，瑞利分布對應均勻雜波背景，其概率密度函數表達式f₁(x)為：

f1(x)=xσ2exp(-x22σ2),x≥0---(1)]]>

式中，x為雜波回波的包絡幅度，σ為瑞利分布參數；

1-2.建立K分布，K分布是一種有兩個參數概率分布的雜波分布統計模型，由一個快變調制分量和一個慢變調制分量組成，用K分布模擬雜波邊緣背景，其概率密度函數表達式f₂(x)為：

f2(x)=2bΓ(v)(bx2)vKv-1(bx)---(2)]]>

其中，v為形狀參數，決定了雜波分布的特征；b為尺度參數，受雜波分布中值與雷達反射截面積影響；Γ(·)為伽瑪函數，K_v-1為修正貝塞爾函數；

1-3.建立韋布爾分布

韋布爾分布模型是一種介于瑞利分布模型和對數-正態分布模型之間的雜波分布模型，是一個分布族，能夠對的雜波環境進行幅度分布模擬；韋布爾分布其概率密度函數表達式f₃(x)為：

f3(x)=αxα-1xmexp[-(xxm)α],x≥0---(3)]]>

其中，α為分布形狀函數（Weibull斜度參數），x_m為分布中值；α＝1時，韋布爾分布變成指數分布，α＝2時，韋布爾分布則成為瑞利分布。