[發(fā)明專利]一種測量光刻機(jī)垂向測量系統(tǒng)反射鏡面形的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410011377.7
• 申請日: 2014-01-10
• 公開（公告）號: CN104777715B
• 公開（公告）日: 2017-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫朋
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01B11/24
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31237
• 代理人: 屈蘅

1.一種測量光刻機(jī)垂向測量系統(tǒng)反射鏡面形的方法，其特征在于包括如下步驟：

1）上載基底至工件臺，上載具有可確定最佳焦面標(biāo)記的掩模至掩模臺；

2）保持工件臺Y向位置不變，利用干涉儀控制工件臺在Z向上步進(jìn)n次，工件臺每步進(jìn)一次，在X向同樣步進(jìn)一個步距，，將掩模上所述標(biāo)記曝光至基底上；

3）n個高度曝光完畢后，工件臺Y?向步進(jìn)一個步距，重復(fù)步驟2），直到曝光完整個基底，共曝光m組標(biāo)記；

4）將基底顯影、烘干，再次上載到工件臺上，讀取n×m個標(biāo)記的對準(zhǔn)位置；

5）根據(jù)所述對準(zhǔn)位置計算標(biāo)記的對準(zhǔn)偏移量，根據(jù)對準(zhǔn)偏移量與離焦量的關(guān)系計算得出每個Y向位置處y_i的最佳焦點(diǎn)位置BF，則最佳焦點(diǎn)位置的變化量???????????????????????????????????????????????，其中，P為工件臺位置；

6）根據(jù)m個位置y_i和對應(yīng)的鏡面實(shí)際位置距離名義位置距離Δh_i，擬合所述反射鏡面形，其中，。

2.?如權(quán)利要求1所述的測量光刻機(jī)垂向測量系統(tǒng)反射鏡面形的方法，其特征在于：利用最小二乘法擬合反射鏡面形曲線。

3.?如權(quán)利要求1所述的測量光刻機(jī)垂向測量系統(tǒng)反射鏡面形的方法，其特征在于：利用對準(zhǔn)系統(tǒng)讀取所述n×m個標(biāo)記的對準(zhǔn)位置。

4.?如權(quán)利要求2所述的測量光刻機(jī)垂向測量系統(tǒng)反射鏡面形的方法，其特征在于：利用四次曲線表征反射鏡面形，則，其中a、b、c、d、e為四次曲線的系數(shù)，m組Y向位置數(shù)據(jù)可表示成如下矩陣形式：

即：

可求得：，其中B表征反射鏡面形。