[發明專利]一種具有立方結構的金聚集體納米材料及其合成方法

有效

• 申請號: 201410011264.7
• 申請日: 2014-01-10
• 公開（公告）號: CN103691968A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發明（設計）人: 高錦豪;胡娟;朱祥龍;王效民;池小琴;李輝
• 申請（專利權）人: 廈門大學
• 主分類號: B22F9/24
• 分類號: B22F9/24;B82Y40/00
• 代理公司: 廈門南強之路專利事務所(普通合伙) 35200
• 代理人: 馬應森

1.一種具有立方結構的金聚集體納米材料，其特征在于所述具有立方結構的金聚集體納米材料由金納米顆粒構成的，通過氧化亞銅模板與氯金酸溶液反應得到，整體呈立方體形狀，粒徑在60～800nm可調，所述氧化亞銅模板是立方體結構的氧化亞銅納米材料，粒徑在50～750nm可調。

2.如權利要求1所述具有立方結構的金聚集體納米材料的合成方法，其特征在于包括以下步驟：

1）將硫酸銅與表面活性劑聚乙二醇溶于水得混合溶液1，將還原劑抗壞血酸和氫氧化鈉溶液溶于水得混合溶液2，將混合溶液2倒入混合溶液1中，待反應完全加溶劑離心棄去上清液得沉淀即為氧化亞銅模板；

2）將氧化亞銅模板分散于水中，并加入氯金酸反應，待反應完全加溶劑離心棄去上清液，所得沉淀即為具有立方結構的金聚集體納米材料。

3.如權利要求2所述具有立方結構的金聚集體納米材料的合成方法，其特征在于在步驟1）中，所述表面活性劑聚乙二醇選自多種基團末端的聚乙二醇，所選聚乙二醇分子量為200～10000，所述多種基團選自羥基，甲氧基，氨基，巰基中的一種。

4.如權利要求2所述具有立方結構的金聚集體納米材料的合成方法，其特征在于在步驟1）中，所述硫酸銅、聚乙二醇、抗壞血酸和氫氧化鈉的質量比為（0.5～500）∶（0.01～100）∶（1～1000）∶（5～1000）。

5.如權利要求2所述具有立方結構的金聚集體納米材料的合成方法，其特征在于在步驟1）中，所述溶劑采用無水乙醇。

6.如權利要求2所述具有立方結構的金聚集體納米材料的合成方法，其特征在于在步驟1）中，所述反應的溫度為10～60℃。

7.如權利要求2所述具有立方結構的金聚集體納米材料的合成方法，其特征在于在步驟2）中，所述氧化亞銅模板與氯金酸的質量比為（0.01～100）∶（0.02～200）。

8.如權利要求2所述具有立方結構的金聚集體納米材料的合成方法，其特征在于在步驟2）中，所述溶劑采用無水乙醇。