[發(fā)明專利]釕配合物的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410010553.5
• 申請日: 2009-09-11
• 公開（公告）號: CN103755743B
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 奈良秀樹;佐用升;藤原孝浩
• 申請（專利權(quán)）人: 高砂香料工業(yè)株式會社
• 主分類號: C07F15/00
• 分類號: C07F15/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227
• 代理人: 金世煜,苗堃

1.通式(3)所示的釕配合物的制造方法，其特征在于，使光學(xué)活性雙膦PP與通式(7)所示的釕化合物進(jìn)行反應(yīng)而得到通式(1)所示的釕化合物，接著使通式(2)所示的羧酸鹽與通式(1)所示的釕化合物進(jìn)行反應(yīng)，

Ru(OCOR¹)₂(PP)(3)

式(3)中，R¹表示選自烷基、鹵代烷基、可以具有取代基的苯基、1-氨基烷基和1-氨基-1-苯基烷基中的基團(tuán)，PP表示光學(xué)活性雙膦，

R¹CO₂M (2)

式(2)中，M表示一價陽離子，R¹表示選自烷基、鹵代烷基、可以具有取代基的苯基、1-氨基烷基和1-氨基-1-苯基烷基中的基團(tuán)，

[RuX(L) (PP)]X (1)

式(1)中，Ru表示釕原子，X表示鹵原子，L表示芳烴，PP表示光學(xué)活性雙膦，

[RuX₂(L)]_n (7)

式(7)中，Ru表示釕原子，X表示鹵原子，L表示芳烴，n表示2以上的自然數(shù)，

其中，使用的溶劑是酰胺化合物以外的溶劑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其中，所述光學(xué)活性雙膦是下述式(4)或(5)所示的光學(xué)活性雙膦，

式(4)中，R⁶和R⁷各自獨(dú)立地表示可以被選自鹵原子、烷基和烷氧基中的取代基取代的苯基，或者表示環(huán)戊基或環(huán)己基，

式(5)中，R⁸和R⁹各自獨(dú)立地表示可以被選自鹵原子、烷基和烷氧基中的取代基取代的苯基、或者表示環(huán)戊基或環(huán)己基，R¹⁰、R¹¹、R¹³和R¹⁴各自獨(dú)立地表示選自氫原子、烷基、烷氧基、酰氧基、鹵原子、鹵代烷基和二烷基氨基中的基團(tuán)，R¹²和R¹⁵各自獨(dú)立地表示選自烷基、烷氧基、酰氧基、鹵原子、鹵代烷基和二烷基氨基中的基團(tuán)，R¹⁰、R¹¹和R¹²中的2個基團(tuán)可以一起形成可以具有取代基的亞甲基鏈或可以具有取代基的亞甲二氧基或多亞甲二氧基，R¹³、R¹⁴和R¹⁵中的2個基團(tuán)可以一起形成可以具有取代基的亞甲基鏈或可以具有取代基的亞甲二氧基或多亞甲二氧基，R¹²和R¹⁵可以一起形成可以具有取代基的亞甲基鏈或可以具有取代基的亞甲二氧基或多亞甲二氧基。