[發明專利]屏蔽頂蓋

有效

• 申請號: 201410006507.8
• 申請日: 2014-01-07
• 公開（公告）號: CN103886924B
• 公開（公告）日: 2017-03-29
• 發明（設計）人: 劉青松;袁杰;余冰;馬慶俊;孟海軍;程鵬;施英杰;李力;趙賓
• 申請（專利權）人: 中廣核研究院有限公司;大亞灣核電運營管理有限責任公司;中國廣核集團有限公司
• 主分類號: G21F3/00
• 分類號: G21F3/00
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司44202
• 代理人: 張艷美,郝傳鑫

1.一種屏蔽頂蓋，覆蓋在反應堆壓力容器的開口上以減少核輻射劑量，其特征在于：所述屏蔽頂蓋包括上蓋體和下蓋體，所述上蓋體包括上蓋體側壁和設置于所述上蓋體側壁上端的蓋板，以使所述上蓋體形成下部開口的筒體；所述下蓋體為上下貫通的筒體，所述上蓋體的下端和所述下蓋體的上端周邊封閉固定連接；所述下蓋體的下端設有與反應堆壓力容器相對應的下法蘭。

2.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述反應堆壓力容器安裝有至少一個導向柱，所述屏蔽頂蓋外壁設置有導向機構，所述導向機構與所述導向柱配合以安裝定位所述屏蔽頂蓋。

3.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述下法蘭下側面可拆卸地連接有支承柱；所述支承柱的下端抵頂所述反應堆壓力容器內的堆內構件，以定位所述屏蔽頂蓋。

4.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述下法蘭于所述反應堆壓力容器的定位鍵處對應開設有定位鍵避讓口，所述下法蘭固定有封閉所述定位鍵避讓口的封帽。

5.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述下法蘭于所述堆內構件上疏水管的位置開設有上疏水管避讓孔。

6.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述屏蔽頂蓋還包括呈圓環狀的防護環，所述防護環繞設于所述下蓋體的周側，且所述防護環的外徑大于所述下法蘭的外徑，所述防護環的內徑小于所述下法蘭的外徑。

7.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述蓋板開設有排氣孔和/或排水孔。

8.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述蓋板設置有用于移動所述屏蔽頂蓋的吊具。

9.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述蓋板上設置有防滑擋板和安全帶掛桿。

10.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述下蓋體的側壁內封裝有鉛屏層。

11.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述上蓋體和所述下蓋體內壁設置有不銹鋼板，所述下法蘭的表面堆焊有不銹鋼層。

12.如權利要求1所述的屏蔽頂蓋，其特征在于：所述屏蔽頂蓋外壁設置有呈分體結構的爬梯，所述爬梯包括連接于所述上蓋體的上爬梯和可拆卸地連接于所述下蓋體的下爬梯。