[發明專利]電解槽、使用該電解槽的蝕刻液再生設備及再生方法

有效

• 申請號: 201410001343.X
• 申請日: 2014-01-02
• 公開（公告）號: CN103757664B
• 公開（公告）日: 2017-04-05
• 發明（設計）人: 耐迪·薩多克
• 申請（專利權）人: 陶克（蘇州）機械設備有限公司
• 主分類號: C25C7/00
• 分類號: C25C7/00;C23F1/46;C25C1/12
• 代理公司: 南京蘇科專利代理有限責任公司32102
• 代理人: 陸明耀,姚姣陽

1.一種電解槽，其特征在于：包括設有電-電滲析系統的A隔間和內設有電解系統的B隔間，所述A隔間包括用于產生反應氣體O₂的第一陽極室；用于回收銅的第一陰極室，以及置于所述第一陽極室和和第一陰極室之間的中間室；所述B隔間包括用于產生反應氣體O₂和加速劑ClO₃^-的第二陽極室，以及用于回收銅的第二陰極室。

2.根據權利要求1所述的電解槽，其特征在于：所述B隔間包括2個第二陽極室和2個第二陰極室，所述第二陽極室和第二陰極室間隔設置。

3.一種使用權利要求1所述的電解槽的蝕刻液再生設備，其特征在于：包括，

一與蝕刻機內的蝕刻液池連接的反應器，所述反應器包括一個預溢流室及第一、第二、第三溢流室，所述蝕刻液從預溢流室流出后按序進入三個溢流室，

一與所述反應器連接的電解槽，所述電解槽包括內設有電-電滲析系統的A隔間和內設有電解系統的B隔間，所述A隔間包括用于產生反應氣體O₂的第一陽極室；用于回收銅的第一陰極室，以及置于所述第一陽極室和和第一陰極室之間的中間室；所述B隔間包括用于產生反應氣體O₂和加速劑ClO₃^-的第二陽極室，以及用于回收銅的第二陰極室；

所述電解槽還包括第一緩存槽和第二緩存槽，所述第一緩存槽的入口與所述預溢流室連接，所述第一緩存槽的出口與所述第一溢流室連接，所述第一緩存槽還與所述電解槽內的第一陰極室和第二陰極室連通，所述第一陽極室與第二緩存槽連通，所述中間室與第二溢流室連通，所述第二陽極室與第一溢流室連通，所述反應器與電解槽之間還設有氣體管路并將兩者連接起來，所述第三溢流室的出口連接于所述蝕刻機內的蝕刻液池或蝕刻液噴頭。

4.根據權利要求3所述的蝕刻液再生設備，其特征在于：所述第一陽極室和中間室之間設有僅限陽離子從所述第一陽極室進入到中間室內的陽離子膜，所述中間室和第一陰極室之間設有僅限陰離子從所述第一陰極室進入到中間室內的陰離子膜。

5.根據權利要求3所述的蝕刻液再生設備，其特征在于：所述第一陰極室和第二陰極室內設有鈦板電極，電流密度在1到10A/dm²之間。

6.根據權利要求3所述的蝕刻液再生設備，其特征在于：所述第一陽極室內包含硫酸溶液和鈦板電極，硫酸適宜的濃度為10%到20%之間，電流密度為1到5A/dm²。

7.根據權利要求3所述的蝕刻液再生設備，其特征在于：所述反應器與電解槽之間設有的氣體管路具體包括：所述A隔間的第一陰極室、B隔間的第二陰極室及A隔間的第一陽極室的氣體出口通過氣體管路與第一溢流室的氣體入口連接，所述B隔間的第二陽極室的氣體出口與第二溢流室的氣體入口連接。

8.根據權利要求3所述的蝕刻液再生設備，其特征在于：所述反應器內部管路包括：所述第一溢流室的過量氣體出口與第二溢流室的氣體入口連接，所述第二溢流室的過量氣體出口與第三溢流室的氣體入口連接。

9.一種蝕刻液再生方法，其特征在于：由相互連通的反應器和電解槽完成，所述反應器包括第一、第二、第三溢流室和一個預溢流室，所述電解槽由電-電滲析系統、電解系統，和第一緩存槽、第二緩存槽組成，

所述再生酸性蝕刻液方法包括如下步驟，

含[CuCl₂]^-的廢酸性蝕刻液進入至所述反應器內的預溢流室；

一小部分廢酸性蝕刻液從預溢流室中被注入電解槽的第一緩存槽中，剩余的廢酸性蝕刻液將流向第一溢流室；

進入至第一緩存槽中的廢酸性蝕刻液被注入所述電解槽的電解系統和電-電滲析系統的陰極室內析出銅，進而變成低含銅量酸性蝕刻液再回到第一緩存槽內，

所述低含銅量酸性蝕刻液返回到所述反應器的第一溢流室內；

進入到第一溢流室內的廢酸性蝕刻液和低含銅量酸性蝕刻液混合后，其中一部分被注入至所述電解系統的陽極室內，反應后返回；另一部分將流向第二溢流室；

進入到第二溢流室內的廢酸性蝕刻液，其中一部分與所述電-電滲析系統的中間室相連，反應后返回，另一部分將繼續流向第三溢流室，

再生后的酸性蝕刻液最終通過管路回到蝕刻機的噴嘴。