[發明專利]具有納米結構化表面的制品有效
| 申請號: | 201380081423.4 | 申請日: | 2013-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN105792953B | 公開(公告)日: | 2018-11-09 |
| 發明(設計)人: | S·庫代爾;R·德利約;G·托爾蒂西耶 | 申請(專利權)人: | 依視路國際公司;株式會社尼康 |
| 主分類號: | B08B17/06 | 分類號: | B08B17/06;G02B1/11;G02B27/00 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 牛南輝;魏子翔 |
| 地址: | 法國沙*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 納米 結構 表面 制品 | ||
1.一種制品,其包括至少一個納米結構化表面,其中:
-所述納米結構化表面由具有低于25mJ/m2的表面能的材料制成,并且包括限定出腔的相接的基元的陣列,
所述基元的所述腔通過中間的固體材料壁而被彼此分隔開,并且向外界開口,
并且
-所述腔具有滿足以下條件的平均高度H和平均半徑R:
R≥5nm;
R≤250nm;以及
H≤3R,
其中θadv是液體在由與所述納米結構化表面相同的表面材料制成的平坦表面上的前進角,并且
其中,所述制品具有等于或低于30%的下沉α,其中
其中h是所述腔中間壁的被液體潤濕的高度,H是所述腔的平均高度。
2.根據權利要求1所述的制品,其中平均半徑R滿足以下條件:
R≥10nm;
R≤200nm。
3.根據權利要求2所述的制品,其中
R≤150nm。
4.根據權利要求2所述的制品,其中
R≤100nm。
5.根據權利要求1所述的制品,其中,下沉α為從10%至小于30%,并且腔平均高度H滿足條件H≤1.5R。
6.根據權利要求1所述的制品,其中,下沉α小于10%,并且腔平均高度H滿足條件H≤0.5R。
7.根據權利要求1所述的制品,其中,H>0.20R。
8.根據權利要求1所述的制品,其中,所述基元陣列的幾何固相分數等于或低于0.7,所述幾何固相分數從納米結構俯視圖視角被定義為所述納米結構化表面的固體表面積與總表面積的比。
9.根據權利要求8所述的制品,其中,所述基元陣列的幾何固相分數等于或低于0.5。
10.根據權利要求8所述的制品,其中,所述基元陣列的幾何固相分數等于或低于0.3。
11.根據權利要求1所述的制品,其中,所述陣列為周期陣列。
12.根據權利要求1所述的制品,其中,所述納米腔為圓柱形的。
13.根據權利要求1所述的制品,其中,所述納米結構化表面已經受疏水和/或疏油處理。
14.根據權利要求13所述的制品,其中,所述疏水和/或疏油處理包括在制成的表面上沉積疏水和/或疏油涂層。
15.根據權利要求14所述的制品,其中,所述疏水和/或疏油涂層包括含氟化合物。
16.根據權利要求1所述的制品,其中,所述制品為透明的物品。
17.根據權利要求16所述的制品,其中,所述透明的物品為光學物品。
18.根據權利要求2所述的制品,其中,下沉由以下測量方法確定:使液體凍結或使保持與所述液體相同的表面張力的流體硬化以通過借助掃描電子顯微鏡檢查固化的液體的形狀而探測并且測量所述下沉。
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