[發(fā)明專利]研磨用玻璃光學(xué)元件坯料用成型模具、研磨用玻璃光學(xué)元件坯料的制造方法以及光學(xué)元件的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380081402.2 | 申請日： | 2013-12-12 |
| 公開（公告）號： | CN105793201B | 公開（公告）日： | 2019-06-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 莊司昂浩;池西干男 | 申請（專利權(quán)）人： | HOYA株式會社 |
| 主分類號： | C03B11/06 | 分類號： | C03B11/06;G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人： | 龐東成 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 研磨 玻璃 光學(xué) 元件 坯料 成型 模具 制造 方法 以及 | ||
1.一種成型模具，該成型模具至少具有上模和下模、且用于制造研磨用玻璃光學(xué)元件坯料，其中，所述上模和下模中的至少一者的成型面具有氧化物陶瓷膜，所述成型面的表面粗糙度Rz超過10μm，具有氧化物陶瓷膜的情況下，氧化物陶瓷膜的表面為成型面。
2.如權(quán)利要求1所述的成型模具，其中，所述成型面的表面粗糙度Rz為50μm以下。
3.如權(quán)利要求1或2所述的成型模具，其用于在大氣氣氛中對已軟化的玻璃原材料進行模壓成型。
4.如權(quán)利要求1或2所述的成型模具，其中，所述氧化物陶瓷膜的平均膜厚為5μm以上80μm以下。
5.如權(quán)利要求1或2所述的成型模具，其中，所述氧化物陶瓷膜包含選自由氧化硅、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎂和氧化鈣組成的組中的至少一種。
6.一種研磨用玻璃光學(xué)元件坯料的制造方法，其包括下述工序：
準(zhǔn)備權(quán)利要求1～5中任一項所述的成型模具的工序；和
模壓工序，其中，在大氣氣氛下對由光學(xué)玻璃構(gòu)成的玻璃原材料進行再加熱后，利用所述成型模具對已軟化的所述玻璃原材料進行模壓成型。
7.一種光學(xué)元件的制造方法，其包括下述工序：
對由權(quán)利要求6所述的制造方法制造得到的研磨用玻璃光學(xué)元件坯料進行磨削的磨削工序；和
對經(jīng)所述磨削工序的研磨用玻璃光學(xué)元件坯料進行研磨的研磨工序。
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