[發明專利]具有印模結構的印模及其制造方法

有效

• 申請號: 201380081300.0
• 申請日: 2013-11-29
• 公開（公告）號: CN105765457B
• 公開（公告）日: 2020-01-21
• 發明（設計）人: M.喬伊基
• 申請（專利權）人: EV集團E·索爾納有限責任公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 72001 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 張華;林森

1.具有印模結構的壓印印模，其中所述印模結構至少部分由作為印模材料的有機硅形成，其中所述壓印印模可變形，其中該壓印印模具有小于10000 MPa的E模量，其中所述壓印印模的表面粗糙度小于1微米，其中壓花材料和所述壓印印模之間的粘附以能量面積密度描述小于2.5 J/m²，并且其中如果印模材料親水，則壓花材料疏水，或者如果印模材料疏水，則壓花材料親水，或者壓花材料和印模材料兩者都疏水。

2.根據權利要求1的印模，其中所述印模材料具有環氧基和/或丙烯酰基。

3.根據權利要求1或2的印模，其中所述印模材料由一種或多種下述提及的材料形成：

- 丙烯酸酯有機硅或環氧有機硅，

- 多面體低聚倍半硅氧烷，

- 原硅酸四乙酯和/或

- 聚有機硅氧烷。

4.根據權利要求1或2的印模，其中所述印模材料是通過紫外線輻射或通過熱輻射硬化了的或者能通過紫外線輻射或通過熱輻射進行硬化的。

5.根據權利要求1或2的印模，其中所述印模材料在5000納米至10納米的波長范圍內是透明的。

6.根據權利要求1或2的印模，其中所述印模材料在1000納米至100納米的波長范圍內是透明的。

7.根據權利要求1或2的印模，其中所述印模材料在700納米至200納米的波長范圍內是透明的。

8.根據權利要求1或2的印模，其中所述印模材料在500納米至400納米的波長范圍內是透明的。

9.用于形成壓印印模的印模結構的方法，其中所述印模結構至少部分由作為印模材料的有機硅形成，其中所述壓印印模可變形，其中該壓印印模具有小于10000 MPa的E模量，其中所述壓印印模的表面粗糙度小于1微米，其中壓花材料和所述壓印印模之間的粘附以能量面積密度描述小于2.5 J/m²，并且其中如果印模材料親水，則壓花材料疏水，或者如果印模材料疏水，則壓花材料親水，或者壓花材料和結構印模兩者都疏水。

10.根據權利要求9的方法，其中通過紫外線輻射或通過熱輻射硬化所述印模結構的印模材料。