[發(fā)明專利]用于激光加工裝置的激光加工噴嘴和該激光加工裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380078437.0 | 申請日: | 2013-05-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105408050B | 公開(公告)日: | 2018-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | D·辛德黑爾姆;C·格雷格;B·雷加阿爾德 | 申請(專利權(quán))人: | 通快機(jī)床兩合公司 |
| 主分類號(hào): | B23K26/03 | 分類號(hào): | B23K26/03;B23K26/14 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司72002 | 代理人: | 曾立 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 激光 加工 裝置 噴嘴 | ||
1.一種用于激光加工裝置(1)的激光加工噴嘴(6),其中,所述激光加工裝置(1)為了過程監(jiān)測而具有探測裝置(10),用于探測通過所述激光加工噴嘴(6)所限定的過程區(qū)域(7)的輻射,其特征在于,所述激光加工噴嘴(6)具有金屬的基體(24),為了構(gòu)造出反差區(qū)段(25),在所述基體的表面上施加有對于在300nm至1100nm之間觀測波長情況下的輻射而言和/或?qū)τ谠?00nm至1700nm之間觀測波長情況下的輻射而言吸收的涂層和/或形成有散射的表面結(jié)構(gòu),
其中,所述反差區(qū)段(25)設(shè)置在所述激光加工噴嘴(6)上,使得從所述過程區(qū)域(7)出來的輻射能夠直接地射到該反差區(qū)段(25)上;和/或
所述反差區(qū)段(25)設(shè)置在所述激光加工噴嘴(6)上,使得該反差區(qū)段(25)能夠設(shè)置在探測裝置(10)的拍攝區(qū)域(27)內(nèi),該探測裝置(10)用于探測所述過程區(qū)域(7)的輻射。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光加工噴嘴(6),其特征在于,所述激光加工噴嘴(6)構(gòu)造成,借助所述探測裝置(10)使所述過程區(qū)域(7)的輻射能夠穿通所述激光加工噴嘴(6)的在兩個(gè)噴嘴口之間延伸的噴嘴通道(5)被探測到,并且,所述反差區(qū)段(25)設(shè)置在所述噴嘴通道壁上,使得從在運(yùn)行中背向所述過程區(qū)域(7)的那個(gè)噴嘴口起能夠看到該反差區(qū)段(25)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的激光加工噴嘴(6),其特征在于,所述反差區(qū)段(25)借助涂層而對于在觀測波長情況下的輻射具有吸收效果。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光加工噴嘴(6),其特征在于,至少一個(gè)在運(yùn)行中面向所述過程區(qū)域(7)的、所述激光加工噴嘴(6)外表面部分不具有如所述反差區(qū)段(25)那樣的涂層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4中任一項(xiàng)所述的激光加工噴嘴(6),其特征在于,所述反差區(qū)段(25)對于在觀測波長情況下的輻射具有吸收效果,其中,該反差區(qū)段不吸收或僅很小程度地吸收具有大于2000nm波長的輻射。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4中任一項(xiàng)所述的激光加工噴嘴(6),其特征在于,所述反差區(qū)段(25)對于在觀測波長情況下的輻射具有吸收效果,其中,該反差區(qū)段(25)不吸收或僅很小程度地吸收如下輻射,該輻射具有設(shè)有所述激光加工噴嘴(6)的所述激光加工裝置(1)的激光射束的波長。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4中任一項(xiàng)所述的激光加工噴嘴(6),其特征在于,所述反差區(qū)段(25)設(shè)置成:在穿通所述激光加工噴嘴(6)的觀察方向上看,該反差區(qū)段(25)包圍在運(yùn)行中面向所述過程區(qū)域(7)的那個(gè)噴嘴口,和/或在穿通所述激光加工噴嘴(6)的觀察方向上看,所述反差區(qū)段(25)直接地鄰接在運(yùn)行中面向所述過程區(qū)域(7)的那個(gè)噴嘴口。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光加工噴嘴(6),其特征在于,所述激光加工噴嘴(6)具有由銅制成的金屬的基體(24)。
9.一種激光加工裝置(1),其具有根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于激光加工裝置(1)的激光加工噴嘴(6),其中,所述激光加工裝置(1)具有探測裝置(10),用于探測通過所述激光加工噴嘴(6)所限定的過程區(qū)域(7)的、在觀測波長情況下的輻射,其中,所述激光加工噴嘴(6)的反差區(qū)段(25)對于至少在所述探測裝置(10)觀測波長情況下的輻射具有散射的和/或吸收的效果。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的激光加工裝置(1),其特征在于,借助于所述探測裝置(10)使所述過程區(qū)域(7)的輻射能夠穿通所述激光加工噴嘴(6)的在兩個(gè)噴嘴口之間延伸的噴嘴通道(5)被探測到。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的激光加工裝置(1),其特征在于,設(shè)有照明設(shè)備(18),借助于該照明設(shè)備能夠以在相應(yīng)于觀測波長的照明波長情況下的輻射來照明所述過程區(qū)域(7),其中,借助于所述照明設(shè)備(18)能夠穿通該激光加工噴嘴(6)來照明所述過程區(qū)域(7)。
12.一種用于使激光加工噴嘴(6)在激光加工裝置(1)上投入運(yùn)行的方法,其中,將激光加工噴嘴(6)裝配在激光加工裝置(1)上,并且,隨后借助于探測裝置(10)檢驗(yàn):激光加工噴嘴(6)是否具有根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的激光加工噴嘴(6)的反差區(qū)段(25),并且,根據(jù)該檢驗(yàn)結(jié)果針對后續(xù)的激光加工而對通過探測裝置(10)的過程監(jiān)測進(jìn)行激活或解除。
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