[發(fā)明專利]分配并鑿鉆鉆孔的設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380075768.9 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105164372A | 公開(公告)日: | 2015-12-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 約科·穆奧納 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山特維克礦山工程機(jī)械有限公司 |
| 主分類號(hào): | E21D9/00 | 分類號(hào): | E21D9/00;E21B7/02;F42D3/04 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 趙曉祎;戚傳江 |
| 地址: | 芬蘭*** | 國(guó)省代碼: | 芬蘭;FI |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 分配 鉆孔 設(shè)備 | ||
1.一種用于為通過巖石鑿鉆設(shè)備(1)待鑿鉆的一輪鉆孔(23)分配鉆孔的位置的設(shè)備,所述設(shè)備包括至少一個(gè)數(shù)據(jù)處理裝置(29),
所述設(shè)備被構(gòu)造為:
接收對(duì)于所述一輪鉆孔(23)的關(guān)于待鑿鉆的鉆孔(17)的數(shù)據(jù);以及
接收關(guān)于工具(7)的實(shí)際位置和方向的數(shù)據(jù),所述工具(7)被連接到所述巖石鑿鉆設(shè)備(1)的巖石鑿鉆單元(4);
其特征在于,所述設(shè)備進(jìn)一步被構(gòu)造為:
在所述鑿鉆過程中,通過檢測(cè)在所述一輪鉆孔的底部(26)上的所述工具(7)的位置來確定至少一個(gè)已實(shí)現(xiàn)的鉆孔底部(27)的實(shí)際位置;
在鑿鉆新鉆孔之前,為新的當(dāng)前進(jìn)行的鉆孔確定鉆孔底部的即將鉆出的位置,其中所述確定是基于所述工具(7)的當(dāng)前位置和方向以及所述新鉆孔的預(yù)定長(zhǎng)度;以及
相對(duì)于所述一輪鉆孔的所述底部(26)上的所述已實(shí)現(xiàn)的鉆孔底部(27)指示所述新鉆孔的所述即將鉆出的鉆孔底部的所確定的位置。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,
所述設(shè)備包括至少一個(gè)顯示裝置(9);并且
所述設(shè)備被構(gòu)造為在所述顯示裝置(9)上并且相對(duì)于所述已實(shí)現(xiàn)的鉆孔底部(27)指示所述新的即將鉆出的鉆孔底部的所確定的位置。
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備被構(gòu)造為:
對(duì)于所述新的鉆孔底部采用預(yù)定的間隔范圍;并且
根據(jù)所述間隔范圍并且相對(duì)于最靠近的已實(shí)現(xiàn)的鉆孔底部(27)在所述顯示裝置(9)上指示可允許的間隔。
4.如權(quán)利要求2或3所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備被構(gòu)造為:
將所述即將鉆出的鉆孔底部在所述顯示裝置(9)上指示為符號(hào)(40)。
5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備被構(gòu)造為:
將最小鉆孔間隔指示為圍繞所述符號(hào)(40)的第一圓圈(41),以及
將最大鉆孔間隔指示為圍繞所述第一圓圈的第二圓圈(42),由此在所述第一圓圈和所述第二圓圈之間保留對(duì)于所述鉆孔間隔的可接受的容差。
6.如權(quán)利要求2-5所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備被構(gòu)造為:
在所述顯示裝置(9)上通過視覺注意標(biāo)記指示所述已實(shí)現(xiàn)的鉆孔間隔。
7.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備被構(gòu)造為:
在所述顯示裝置上指示下列視覺注意標(biāo)記的至少一個(gè):第一注意標(biāo)記(44),所述第一注意標(biāo)記(44)指示鉆孔間隔相對(duì)于所確定的最小鉆孔間隔太短;第二注意標(biāo)記(45),所述第二注意標(biāo)記(45)指示鉆孔間隔相對(duì)于所確定的最大鉆孔間隔太長(zhǎng);第三注意標(biāo)記(46),所述第三注意標(biāo)記(46)指示鉆孔間隔符合所設(shè)置的間隔范圍。
8.如權(quán)利要求3-7所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備被構(gòu)造為:
觀察所允許的最大間隔的超出;并且
建議臨近所述前一個(gè)已實(shí)現(xiàn)的鉆孔的待設(shè)置的額外的鉆孔。
9.如權(quán)利要求3-8所述的設(shè)備,其特征在于所述設(shè)備被構(gòu)造為:
觀察已實(shí)現(xiàn)的間隔是否比所允許的最小間隔短;并且
產(chǎn)生數(shù)據(jù)元,所述數(shù)據(jù)元包括所觀察到的鉆孔的識(shí)別和關(guān)于所觀察到的鉆孔間隔的信息。
10.如權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其特征在于,
所述數(shù)據(jù)元是包括使所觀察到的鉆孔的所述裝填減少的信息的裝填數(shù)據(jù)元。
11.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,
所述設(shè)備被構(gòu)造為在顯示裝置上將所述鉆孔底部示出為鉆孔圖案(16),其中,
第一鉆孔行是所述一輪鉆孔的最外輪廓行(18);
第二鉆孔行是所述一輪鉆孔的最外輔助行(19),并且位于所述輪廓行(18)內(nèi)側(cè);并且
所述輪廓行(18)和所述輔助行(19)各自包括壁部區(qū)段(W),底部區(qū)段(B)以及頂部區(qū)段(R);
以及其中對(duì)于每一個(gè)鉆孔行的所述壁部、底部和頂部區(qū)段確定單獨(dú)的間隔范圍。
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