[發明專利]用于處理基底堆疊的保持系統、裝置及方法

有效

• 申請號: 201380075117.X
• 申請日: 2013-03-27
• 公開（公告）號: CN105074898B
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: E.塔爾納;P.林德納
• 申請（專利權）人: EV集團E·索爾納有限責任公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/687
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 嚴志軍;宣力偉

1.一種保持系統(1,20)，其用于處理待與第二基底(13)接合的第一基底(4)，所述保持系統具有：

－保持表面(1o,20o)，其用于保持第一基底(4)，以及

－至少一個凹口(2,21)，相對于所述保持表面(1o,20o)凹入，用于保持磁性作用的附接機構，以用于相對于與所述第一基底(4)對準的第二基底(13)固定所述第一基底(4)，

－其中，另外的磁體被應用在所述第二基底(13)的背對所述第一基底(4)的固持側(13h)上；

其中，由所述第一基底(4)和所述第二基底(13)構成的基底堆疊(14)在省略所述保持系統(1,20)的情況下能夠僅利用所述附接機構移動。

2.根據權利要求1所述的保持系統，其特征在于，所述凹口(2,21)設計為至少一個架，其布置在外周上，具有用于承坐所述附接機構的承坐區段(2o,21o)，以及用于安裝所述附接機構的朝承坐表面(1o,20o)的中心定向的安裝區段(2o,21o)。

3.根據權利要求2所述的保持系統，其特征在于，所述承坐區段(2o,21o)相對于所述保持表面(1o,20o)傾斜小于60°的角度。

4.根據權利要求3所述的保持系統，其特征在于，所述承坐區段(2o,21o)相對于所述保持表面(1o,20o)傾斜小于45°的角度。

5.根據權利要求3所述的保持系統，其特征在于，所述承坐區段(2o,21o)相對于所述保持表面(1o,20o)傾斜小于30°的角度。

6.根據權利要求3所述的保持系統，其特征在于，所述承坐區段(2o,21o)相對于所述保持表面(1o,20o)傾斜小于15°的角度。

7.根據權利要求1所述的保持系統，其特征在于，所述凹口(2,21)均勻地布置分布在所述保持表面(1o,20o)的外周上。

8.用于處理基底堆疊(14)的裝置，所述基底堆疊(14)由第一基底(4)和相對于所述第一基底(4)對準的第二基底(13)構成，所述裝置具有磁性作用的附接機構，所述附接機構用于在對準的固定位置相對于所述第二基底(13)固定所述第一基底(4)，其中，所述裝置具有放置系統(6)，其用于將所述附接機構放置在所述基底堆疊(14)的背對彼此的側上，以及其中，所述基底堆疊(14)在省略保持系統的情況下能夠僅利用所述附接機構移動。

9.根據權利要求8所述的裝置，其特征在于，所述附接機構具有至少兩對磁性元件(5p)。

10.根據權利要求9所述的裝置，其特征在于，每一對磁性元件(5p)由磁活性的第一磁體和由所述第一磁體磁性吸引的第二磁體形成。

11.根據權利要求10所述的裝置，其特征在于，所述第二磁體是磁活性的。

12.根據權利要求10所述的裝置，其特征在于，所述第一磁體和/或所述第二磁體設計為球形的形狀。

13.根據權利要求10或12所述的裝置，其特征在于，所述第一磁體和/或所述第二磁體至少主要地在所述固定位置由所述一對磁性元件(5p)產生的磁力附接至所述基底堆疊(14)。

14.根據權利要求13所述的裝置，其特征在于，所述第一磁體和/或所述第二磁體完全地在所述固定位置由所述一對磁性元件(5p)產生的磁力附接至所述基底堆疊(14)。

15.根據權利要求8所述的裝置，其特征在于，所述裝置具有根據權利要求1至7中的一項所述的保持系統。