[發明專利]無紡布面膜和相應的美容處理方法在審
| 申請號: | 201380074597.8 | 申請日: | 2013-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN105228488A | 公開(公告)日: | 2016-01-06 |
| 發明(設計)人: | 多米尼克·博迪奧克斯;吉岡成佳;大衛·阿馬爾 | 申請(專利權)人: | 歐萊雅 |
| 主分類號: | A45D44/00 | 分類號: | A45D44/00;A61K8/02 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 | 代理人: | 徐川;姚開麗 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 無紡布 面膜 相應 美容 處理 方法 | ||
1.應用在使用者臉上的無紡布面膜(10、150、160),包括:
劃分出中心孔(16)的基片(14),所述中心孔用于容納使用者口部,所述基片(14)限定穿過所述中心孔(16)的中心的水平軸線(A-A’);
用于連接到使用者耳部(22)的第一側連接元件(18)和第二側連接元件(20);
其中,所述基片(14)由彈性無紡布材料制成,所述基片(14)被配置成,當沿著所述水平軸線拉伸大于10%時,在沿著所述水平軸線(A-A’)到所述中心孔(16)的中心的距離大于40mm且小于75mm的第一點(90)處,將第一壓力施加到NARIKO假面(88)上,并且,所述基片(14)被配置成,當沿著所述水平軸線(A-A’)拉伸大于10%時,以大于35°且有利地小于80°的角度在所述水平軸線A-A’下方到所述中心孔(16)的中心的距離大于65mm且小于100mm的第二點(92)處,將第二壓力施加到NARIKO假面(88)上,其中,所述第二壓力等于或大于所述第一壓力。
2.根據權利要求1所述的面膜(10、150、160),其中,所述第一壓力介于3mmHg和35mmHg之間。
3.根據權利要求1或2所述的面膜(10、150、160),其中,所述第二壓力介于3mmHg和35mmHg之間。
4.根據前述權利要求中任一項所述的面膜(10、150、160),其中,所述基片(14)包括:接收化妝品(24)的吸收無紡布層(30)和附著到所述吸收層(30)的彈性支持無紡布層(32)。
5.根據權利要求4所述的面膜(10、150、160),其中,所述吸收層(30)是有利地包括再生纖維的水刺無紡布層;所述支持層(32)是有利地由聚烯烴纖維組成的熔噴無紡布層。
6.根據前述權利要求中任一項所述的面膜(10、150、160),其中,所述第一連接元件(18)和所述第二連接元件(20)均包括用于接收使用者相應耳部(22)的側連接孔(60、62)。
7.根據權利要求6所述的面膜(10、150、160),其中,至少一個側連接孔(60、62)沿著相對于所述水平軸線(A-A’)傾斜的側孔軸線(C-C’、D-D’)伸長。
8.根據權利要求7所述的面膜(10、150、160),其中,由所述水平軸線(A-A’)上方的側連接孔軸線(C-C’、D-D’)和所述水平軸線(A-A’)的外段構成的角度(α)介于30°和135°之間,有利地介于30°和90°之間。
9.根據權利要求6至8中任一項所述的面膜(10、150、160),其中,每個側連接孔(60、62)限定上端(64、64’)和下端(66、66’),將第一側連接孔(60)的上端(64)與第二側連接孔(62)的上端(66)隔開的上部距離(W1)大于將所述第一側連接孔(60)的下端(64’)與所述第二側連接孔(62)的下端(66’)隔開的下部距離(W2)。
10.根據前述權利要求中任一項所述的面膜(150、160),其中,所述基片(14)包括:無紡布的纖維至少部分融合在一起的至少一個融合區域(164)和無紡布的纖維未融合的至少一個區域(162)。
11.根據權利要求10所述的面膜(10、150、160),其中,至少一個融合區域(164)延伸穿過所述第一連接元件(18)和/或穿過所述第二連接元件(20)。
12.根據前述權利要求中任一項所述的面膜(10、150、160),其中,所述面膜包括由所述基片(14)承載的化妝品(24),所述化妝品(24)有利地是抗衰老產品。
13.使用者臉部的美容處理方法,包括以下步驟:
提供根據前述權利要求中任一項所述的面膜(10、150、160);
沿著水平軸線(A-A’)彈性拉伸所述面膜(10、150、160),有利地大于10%;
將所述面膜(10、150、160)應用到使用者臉(12)上,使得使用者口部位于面對所述中心開口(16);
將所述第一側連接元件(18)和所述第二側連接元件(20)分別連接到使用者耳部(22);
其中,當沿著所述水平軸線拉伸大于10%時,所述基片(14)在沿著所述水平軸線(A-A’)到所述中心孔(16)的中心的距離大于40mm且小于75mm的第一點(90)處,將第一壓力施加到使用者臉部上;并且,當沿著所述水平軸線(A-A’)拉伸大于10%時,所述基片(14)以大于35°且有利地小于80°的角度在所述水平軸線A-A’下方到所述中心孔(16)的中心的距離大于65mm且小于100mm的第二點(92)處,將第二壓力施加到使用者臉部上,并且,所述第二壓力等于或大于所述第一壓力。
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