[發(fā)明專利]從厭氧處理中去除硫化氫在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380073703.0 | 申請(qǐng)日： | 2013-12-20 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN105073645A | 公開（公告）日： | 2015-11-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | P·C·范·德·黑吉登;J·W·A·布魯因斯;J·胡伊斯曼;E·范·茲艾斯恩 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 巴格知識(shí)產(chǎn)權(quán)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C02F1/20 | 分類號(hào)： | C02F1/20;C02F3/28 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 荷蘭*** | 國(guó)省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 處理 去除 硫化氫 | ||
1.一種用于從處理至少含有100毫克/升的基于單質(zhì)硫的含硫化合物的廢水的厭氧反應(yīng)器的含硫化物液體流出物中去除硫化氫的方法，所述方法包括：
(ⅰ)使至少大部分的所述流出物與所述厭氧反應(yīng)器的處理過的產(chǎn)物氣體逆流接觸以吸收所述產(chǎn)物氣體中的硫化氫，產(chǎn)生脫硫流出物和帶有硫化物的氣體，
(ⅱ)在所述接觸后收集所述脫硫流出物，
(ⅲ)將部分所述收集的流出物排出作為處理過的流出物，
(ⅳ)將所述收集的流出物的未排出部分加入并與流入的廢水混合，
(ⅴ)將由此得到的混合液送入所述厭氧反應(yīng)器，和
(ⅵ)對(duì)在步驟(ⅰ)中產(chǎn)生的所述帶有硫化物的氣體進(jìn)行脫硫處理以產(chǎn)生所述處理過的產(chǎn)物氣體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括：
-分別在步驟(ⅲ)排出所述流出物和在步驟(ⅳ)加入所述流出物前使在步驟(ⅱ)收集的所述液體流出物脫氣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述處理過的產(chǎn)物氣體在步驟(ⅰ)所述接觸前包含少于0.2體積％，優(yōu)選少于0.05體積％的硫化氫。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述處理過的產(chǎn)物氣體在步驟(ⅰ)所述接觸前包含至少5體積％，優(yōu)選10體積％-50體積％的二氧化碳。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的方法，其中步驟(ⅳ)的所述脫硫通過硫化氫的氧化進(jìn)行，優(yōu)選通過硫化氫的生物氧化成單質(zhì)硫進(jìn)行。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述液體流出物的pH在6.0-8.5之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述厭氧反應(yīng)器的基本上所有的所述液體排出物都在步驟(ⅰ)中與處理過的產(chǎn)物氣體經(jīng)過所述接觸。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法，其中將在步驟(ⅰ)中產(chǎn)生的所述帶有硫化物的氣體加入到所述厭氧反應(yīng)器的所述產(chǎn)物氣體中，且基本上全部產(chǎn)物氣體被脫硫。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的方法，其中每升所述廢水包含0.1克-10克的含硫化合物(基于單質(zhì)硫)，特別是如硫酸鹽、亞硫酸鹽和/或硫代硫酸鹽，且當(dāng)所述廢水包含大于400毫克/升(基于單質(zhì)硫)的含硫化合物時(shí)，在送入所述厭氧反應(yīng)器前將所述硫濃度通過稀釋降低至低于400毫克/升，優(yōu)選為降低至低于300毫克/升。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的方法，所述方法在單下流柱中進(jìn)行，所述單下流柱具有用于使所述流出物與所述氣體接觸的上部，和用于在所述接觸后收集所述流出物且用于脫氣和排出至少部分所述收集的流出物的下部，和任選地進(jìn)一步具有用于添加和混合廢水并將廢水送入所述厭氧反應(yīng)器的最低部。
11.一種用于處理包含至少100毫克基于單質(zhì)硫的含硫化合物的廢水的方法，所述方法包括在具有密閉頂部空間的上流式厭氧反應(yīng)器中處理所述廢水以及使在所述厭氧反應(yīng)器的頂部收集的所述厭氧反應(yīng)器的所述含硫化物液體流出物經(jīng)過根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的方法的處理。
12.一種高度至少是其直徑兩倍的下流液氣提塔(1)，其中所述下流液氣提塔(1)包括用于容納氣體及用于使液體與所述氣體接觸的上部(11)，和用于容納液體的下部(12)，所述氣提塔從上到下包括：
a.位于頂部的氣體出口(13)；
b.液體入口(14)，包括將液體分布到氣體內(nèi)的裝置；
c.用于使氣體和液體密切接觸的接觸區(qū)(15)；
d.氣體入口(16)；
e.位于所述下部(12)的液體出口(17)，位于所述液體出口(17)之上和所述氣體入口(16)之下的所述下部區(qū)域形成脫氣區(qū)；
f.液體入口(43)；
g.液體出口(19)；
所述入口(f)和出口(g)設(shè)在混合槽(40)上，所述混合槽是所述氣提塔的一部分或者通過液體管線(18)與所述氣提塔連接。
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