[發明專利]等離子體輔助物理氣相沉積源在審
| 申請號： | 201380071622.7 | 申請日： | 2013-12-04 |
| 公開（公告）號： | CN104955979A | 公開（公告）日： | 2015-09-30 |
| 發明（設計）人： | 崔镕燮;鄭熔鎬;盧泰協;石東簒;樸賢宰 | 申請（專利權）人： | 韓國基礎科學支援研究院 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人： | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 輔助 物理 沉積 | ||
【權利要求書】：
1.一種等離子體輔助物理氣相沉積源，其特征在于，包括：
坩堝，其內部具有等離子體發生空間；
噴嘴，其形成于所述坩堝的上端面；
等離子體發生用電極，其沿所述坩堝的長度方向向坩堝內部插入了預定長度；
等離子體發生用電源裝置，其連接于所述等離子體發生用電極；
絕緣體，其包圍所述等離子體發生用電極的下部的局部，填充坩堝內部的局部；以及
蒸發物質，其堆積于所述絕緣體上，
其中，所述噴嘴能夠變更噴嘴尺寸使得所述坩堝內部的等離子體發生空間保持能夠發生等離子體的壓力。
2.根據權利要求1所述的等離子體輔助物理氣相沉積源，其特征在于，還包括：
加熱器，其配置于所述坩堝的外部邊緣。
3.根據權利要求1或2所述的等離子體輔助物理氣相沉積源，其特征在于，還包括：
散熱板，其配置于所述加熱器的外部邊緣。
4.根據權利要求1所述的等離子體輔助物理氣相沉積源，其特征在于：
所述等離子體發生用電極的局部插入至所述坩堝內的等離子體發生空間。
5.根據權利要求3所述的等離子體輔助物理氣相沉積源，其特征在于，還包括：
本體，其內部包括所述坩堝、所述加熱器及所述散熱板。
6.根據權利要求1所述的等離子體輔助物理氣相沉積源，其特征在于：
所述噴嘴的尺寸能夠通過噴嘴孔調節部調節。
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