[發(fā)明專(zhuān)利]含有限制在孔中的碘或溴的沸石復(fù)合材料及其用途有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380071115.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104936691B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尹景炳;范曹盛東;樸鏞洙 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 西江大學(xué)校產(chǎn)學(xué)協(xié)力團(tuán) |
| 主分類(lèi)號(hào): | B01J20/18 | 分類(lèi)號(hào): | B01J20/18;C01B7/14;C01B7/09 |
| 代理公司: | 北京市中倫律師事務(wù)所 11410 | 代理人: | 石寶忠 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 含有 限制 中的 復(fù)合材料 及其 用途 | ||
1.一種用于去除放射活性I2的方法,所述方法包括將放射活性I2吸附到包含多孔沸石的用于吸附碘的吸附劑的孔隙中而不會(huì)將所吸附的I2轉(zhuǎn)化成I-的步驟,所述沸石選自由SL-1F、Si-BEA和SL-1組成的組,其中SL-1為硅沸石-1,SL-1F為加入氟離子的硅沸石-1。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于去除放射活性I2的方法,還包括:
通過(guò)與溶解I2的有機(jī)溶劑接觸,通過(guò)加熱,或通過(guò)在加熱的空氣或氮?dú)庵写祾撸瑥乃龇惺馕降腎2的步驟;和
通過(guò)使解吸的I2與AgNO3反應(yīng)形成沉淀的步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中所述有機(jī)溶劑為乙醇、二乙醚、AcOH、苯、CHCl3、二硫化碳、或它們的混合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法,其中所述多孔沸石為粉末、泡沫體、或膜的形式。
5.一種半導(dǎo)體器件,其利用半導(dǎo)體材料的電子性質(zhì),所述半導(dǎo)體材料包括含碘的沸石復(fù)合材料,
其中所述含碘的沸石復(fù)合材料包括多孔沸石和限制在所述沸石的孔中的碘,并且具有小于3.0eV的帶隙或沿所述含碘的沸石復(fù)合材料的至少一個(gè)沸石晶軸的0.1西門(mén)子/m或更高的電導(dǎo)率,所述沸石選自由SL-1F、Si-BEA和SL-1組成的組,其中SL-1為硅沸石-1,SL-1F為加入氟離子的硅沸石-1。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體器件,其中已知含量的碘捕集于其中。
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