[發明專利]制備和修復耐化涂層的方法

有效

• 申請號: 201380070926.1
• 申請日: 2013-11-27
• 公開（公告）號: CN104937139A
• 公開（公告）日: 2015-09-23
• 發明（設計）人: T.R.羅伯茨
• 申請（專利權）人: 搪玻璃技術股份有限公司
• 主分類號: C23C26/00
• 分類號: C23C26/00;C23C30/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 張雅莉

1.在其上具有底涂層的基材上制備耐化涂層的方法，包括：

將基材加熱到第一溫度從而形成軟化底涂層；

將涂層材料火焰噴涂沉積到軟化底涂層上；和

緩慢冷卻基材，從而在基材上形成耐化涂層。

2.如權利要求1所述的方法，其中所述基材包括鋼。

3.如權利要求1所述的方法，其中所述底涂層包括約60～約65wt％二氧化硅。

4.如權利要求1所述的方法，其中所述底涂層包括約10～約22wt％氧化硼。

5.如權利要求1所述的方法，其中所述底涂層包括約1～約9wt％氧化鉀。

6.如權利要求1所述的方法，其中所述底涂層包括約1～約9wt％氧化鋁。

7.如權利要求1所述的方法，其中所述底涂層包括氧化鈣、氧化鋯、氧化鎳、氧化錳、一種或多種堿金屬氧化物或者其組合。

8.如權利要求1所述的方法，其中所述涂層材料包括約68～約74wt％二氧化硅，約0.5～約2.5wt％氧化鋁、約7～約15wt％氧化鈉、約1～約5wt％氧化鋰和約2～約9wt％氧化鋯。

9.如權利要求1所述的方法，其中所述涂層材料包括約68～約74wt％二氧化硅。

10.如權利要求1所述的方法，其中所述涂層材料包括約0.5～約2.5wt％氧化鋁。

11.如權利要求1所述的方法，其中所述涂層材料包括約7～約15wt％氧化鈉。

12.如權利要求1所述的方法，其中所述涂層材料包括約1～約5wt％氧化鋰。

13.如權利要求1所述的方法，其中所述涂層材料包括約2～約9wt％氧化鋯。

14.如權利要求1所述的方法，其中加熱基材包括施加感應加熱。

15.如權利要求1所述的方法，其中緩慢冷卻基材包括施加感應加熱。

16.如權利要求1所述的方法，其中緩慢冷卻基材包括使基材在火焰噴涂沉積之后在不少于30分鐘的時間內度過所述底涂層的玻璃化轉變溫度。

17.如權利要求1所述的方法，其中緩慢冷卻基材包括使基材在火焰噴涂沉積之后在不少于30分鐘的時間內度過所述涂層材料的玻璃化轉變溫度。

18.如權利要求1所述的方法，其中緩慢冷卻基材包括使基材在火焰噴涂沉積之后在不少于1小時的時間內度過所述涂層材料的玻璃化轉變溫度。

19.如權利要求1所述的方法，其中緩慢冷卻基材包括使基材在火焰噴涂沉積之后在不少于2小時的時間內度過所述涂層材料的玻璃化轉變溫度。

20.在有此需要的基材上修復耐化涂層的方法，包括：

將組合物施加到基材上的受損部位，其中所述組合物：

(a)包括具有如下粒徑分布的顆粒形式的底涂層材料：所述粒徑分布使得至少約5wt％的顆粒小于44微米且至少約20wt％的顆粒大于150微米，和

(b)所述底涂層材料包括如下熔塊材料：所述熔塊材料包括約48～約58wt％二氧化硅，約12～約22wt％氧化硼，約1～約9wt％氧化鉀和約1～約9wt％氧化鋁；

燒灼組合物以在基材上形成軟化底涂層；

將涂層材料火焰噴涂沉積到軟化底涂層上，其中所述涂層材料：

(a)為平均粒徑在約74～約177微米范圍內的顆粒形式，和

(b)包括約68～約74wt％二氧化硅，約0.5～約2.5wt％氧化鋁、約7～約15wt％氧化鈉、約1～約5wt％氧化鋰和約2～約9wt％氧化鋯；和

緩慢冷卻基材，從而修復基材上的耐化涂層。

21.如權利要求20所述的方法，其中所述燒灼包括施加感應加熱。

22.如權利要求20所述的方法，其中所述緩慢冷卻基材包括施加感應加熱。

23.如權利要求20所述的方法，其中緩慢冷卻基材包括使基材在火焰噴涂沉積之后在不少于30分鐘的時間內度過所述涂層材料的玻璃化轉變溫度。