[發明專利]控制混合濃度

有效

• 申請號: 201380070592.8
• 申請日: 2013-11-15
• 公開（公告）號: CN105008035B
• 公開（公告）日: 2018-10-26
• 發明（設計）人: 弗朗西斯科·馬丘卡;羅納德·基亞雷洛
• 申請（專利權）人: 恩特葛瑞斯-捷特隆解決方案公司
• 主分類號: B01F15/04
• 分類號: B01F15/04;B01F15/00;G05D11/13
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 齊楊

實施例提供以如下方式達成兩種或兩種以上物質的高準確度混合的混合方法、系統、設備、裝置及組合件：控制所得混合物中的一或多種物質的濃度。混合設備(100)可在混合區或導管(112)處達成兩種或兩種以上物質的混合。所述混合設備可包含用于在混合過程期間檢測所述混合物的一或多個特性的一或多個傳感器(120)。所述傳感器可連續地、每隔一定時間或按照用戶提示而檢測所述混合物特性。所述混合物特性可在所述傳感器中或在控制電路中用于產生所述混合物中的第一構成物質的濃度的指示。基于所述所檢測到的濃度，所述混合設備可自動調整所述第一物質到所述混合區或導管(112)的供應。

相關申請案的交叉參考

本申請案為2012年11月16日提出申請的第61/727,630號美國臨時專利申請案的非臨時案且主張所述美國臨時專利申請案的優先權權益，所述美國臨時專利申請案的全部內容以引用方式明確地并入本文中。

技術領域

本發明的實施例通常涉及物質的高準確度混合。

背景技術

物質的高準確度混合在包含微電子學(在半導體、平板顯示器、磁盤驅動器、太陽能電池等等的形成中)、生命科學(制藥學、生物技術及個人護理以及其它)、化學工程及石化工程的各種各樣的技術領域中是重要的。舉例來說，制造創新(例如半導體制造中的單個晶片處理及藥品制造中的連續反應過程)通常需要化學物質以精確比例混合。

發明內容

示范性實施例提供以如下方式達成兩種或兩種以上物質的高準確度混合的混合方法、系統、設備、裝置及組合件：控制所得混合物中的一或多種物質的濃度。示范性實施例還包含混合組合件，所述混合組合件包含兩個或兩個以上混合設備，每一混合設備經配置以用于混合兩種或兩種以上物質。

根據一個示范性實施例，提供一種用于混合多種物質的方法。所述方法可包含確定混合后物質中的第一輸入物質的目標濃度，所述混合后物質由第一輸入物質與第二輸入物質混合而產生。所述方法可包含在所述第一輸入物質與所述第二輸入物質混合時連續地確定所述混合后物質中的所述第一輸入物質的混合后濃度值。所述方法還可包含：監視所述混合后濃度值以確定混合后濃度是否超出預定目標濃度范圍或所述目標濃度的誤差容限；及在確定所述混合后濃度超出所述預定目標濃度范圍或所述目標濃度的誤差容限時調整經配置以控制所述第一輸入物質的混合前流率的控制閥。

在一些實施例中，所述方法可包含：調整所述控制閥可包含基于一或多個控制參數而調整所述控制閥的位置。所述方法可進一步包含：在確定所述混合后濃度超出所述預定目標濃度范圍或所述目標濃度的誤差容限之后針對所述一或多個控制參數中的至少一者形成至少一個經調整控制參數；及基于所述經調整控制參數而調整所述控制閥。

在一些實施例中，所述方法可進一步包含：確定所述混合后濃度與所述目標濃度之間的差值；基于所述差值及所述經調整控制參數而確定反饋控制值；及基于所述反饋控制值而調整所述控制閥。

在一些實施例中，所述方法可進一步包含基于預定數目個所確定混合后濃度值而產生平均混合后濃度。此外，所述方法可包含監視所述平均混合后濃度以確定所述混合后濃度超出預定目標濃度范圍或所述目標濃度的誤差容限。

在一些實施例中，所述方法可進一步包含：確定所述第二輸入液體的流率；及基于所述所確定流率而設定所述控制閥的初始位置。

在一些實施例中，所述方法可進一步包含在測量所述混合后物質之前使所述混合后物質通過靜態混合器，借此增加所述混合后濃度值的準確度。

在一些實施例中，所述第二輸入物質可為例如可從不同混合設備接收的輸出物質。

在一些實施例中，所述方法可進一步包含：測量所述混合后物質的光學反射率及溫度；基于所述光學反射率及溫度而確定所述混合后物質的折射率；及基于所述折射率而確定所述混合后物質中的所述第一輸入物質的所述混合后濃度值。