[發明專利]多段結晶方法及純化化合物的裝置有效
| 申請號: | 201380070258.2 | 申請日: | 2013-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN105026007B | 公開(公告)日: | 2018-09-21 |
| 發明(設計)人: | H.延森;M.普法伊爾 | 申請(專利權)人: | 蘇舍化學技術有限公司 |
| 主分類號: | B01D9/00 | 分類號: | B01D9/00;C01B25/234;C01B25/237 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 孟慧嵐;徐厚才 |
| 地址: | 瑞士溫*** | 國省代碼: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 結晶 方法 純化 化合物 裝置 | ||
1.純化化合物的方法,其包括:
(i)懸浮結晶步驟,
其特征在于
所述方法還包括
(ii)層結晶步驟,
(iii)從所述層結晶步驟得到的中間產物在所述懸浮結晶步驟中對其進一步純化之前的貯存步驟,其中存在于所述方法中的任何層結晶步驟或階段在靜態結晶單元中進行。
2.根據權利要求1的方法,其中所述化合物為磷酸。
3.根據權利要求1或2的方法,其中所述化合物含有一種或多種金屬或非金屬雜質,其中所述化合物中每種金屬或非金屬雜質的濃度在所述方法中降低至低于1000ppb。
4.根據權利要求1-2任一項的方法,其中所述方法包括一個層結晶階段和二個或更多個懸浮結晶階段,其中所述一個層結晶階段在所述二個或更多個懸浮結晶階段之前進行。
5.根據權利要求1-2任一項的方法,其中存在于所述方法中的任何懸浮結晶步驟或階段包括固-液分離及清洗階段,并且其中所述固-液分離及清洗階段在具有熔體回路的清洗柱中進行。
6.根據權利要求5的方法,其中將溶劑添加至所述熔體回路中。
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