[發明專利]釕絡合物及其制造方法以及含釕薄膜的制作方法

有效

• 申請號: 201380069822.9
• 申請日: 2013-12-06
• 公開（公告）號: CN104903337B
• 公開（公告）日: 2018-07-24
• 發明（設計）人: 多田賢一;山本俊樹;尾池浩幸;摩庭篤;千葉洋一;巖永宏平;河野和久
• 申請（專利權）人: 東曹株式會社;公益財團法人相模中央化學研究所
• 主分類號: C07F15/00
• 分類號: C07F15/00;C23C16/18;H01L21/316;H01L21/318
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 沈雪

1.一種釕絡合物，其由通式(1a)表示，

式中，R^1a、R^2a、R^3a、R^4a及R^5a各自獨立地表示氫原子或碳原子數1～6的烷基，但不包括R^1a、R^2a、R^3a、R^4a及R^5a全部同時為甲基的情況，R^6a、R^7a各自獨立地表示碳原子數1～6的烷基。

2.根據權利要求1所述的釕絡合物，其中，R^1a為碳原子數1～6的烷基，R^2a、R^3a、R^4a及R^5a為氫原子，R^6a及R^7a為甲基。

3.根據權利要求1或2所述的釕絡合物，其中，R^1a為甲基或乙基，R^2a、R^3a、R^4a及R^5a為氫原子，R^6a及R^7a為甲基。

4.一種釕絡合物的制造方法，該方法包括：使通式(4)所示的陽離子性三(腈)絡合物與通式(5)所示的烯酮衍生物在堿的存在下反應，制造通式(1)所示的釕絡合物，

式中，R¹、R²、R³、R⁴及R⁵各自獨立地表示氫原子或碳原子數1～6的烷基，R¹⁹表示碳原子數1～4的烷基，Z^-表示抗衡陰離子，

式中，R²⁰及R²¹各自獨立地表示碳原子數1～6的烷基，

式中，R¹、R²、R³、R⁴及R⁵各自獨立地表示氫原子或碳原子數1～6的烷基，R⁶及R⁷各自獨立地表示碳原子數1～6的烷基。

5.根據權利要求4所述的釕絡合物的制造方法，其中，R¹為碳原子數1～6的烷基，R²、R³、R⁴及R⁵為氫原子，R⁶及R⁷為甲基。

6.根據權利要求4或5所述的釕絡合物的制造方法，其中，R¹為甲基或乙基，R²、R³、R⁴及R⁵為氫原子，R⁶及R⁷為甲基。

7.根據權利要求4或5所述的釕絡合物的制造方法，其中，堿為堿金屬碳酸鹽或烷基胺。

8.一種陽離子性三(腈)絡合物，其由通式(4b)表示，

式中，R^1b表示碳原子數2～6的烷基，R^19b表示碳原子數1～4的烷基，Zb^-表示抗衡陰離子。

9.根據權利要求8所述的陽離子性三(腈)絡合物，其中，R^19b為甲基。

10.根據權利要求8或9的陽離子性三(腈)絡合物，其中，R^1b為乙基，R^19b為甲基。