[發(fā)明專利]用于計(jì)劃照射的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380069777.7
• 申請日: 2013-10-30
• 公開（公告）號: CN104902957A
• 公開（公告）日: 2015-09-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A·吉梅爾;C·貝爾特
• 申請（專利權(quán)）人: GSI重離子研究亥姆霍茨中心有限公司
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 俞海舟

1.一種用于計(jì)劃借助于掃描粒子束(20)進(jìn)行靶體積(34)照射的方法，包括下述步驟：

定義設(shè)置在體(77)中的靶體積(34)，

將靶體積(34)劃分為多個能被單獨(dú)照射的靶點(diǎn)(30)，

定義多個在時(shí)間上連續(xù)的局部照射計(jì)劃，

將靶體積(34)的靶點(diǎn)(30)按子集(A、B、C、D)分配給局部照射計(jì)劃，并且子集(A、B、C、D)分別分布在整個靶體積(34)上，并且靶體積(34)的彼此相鄰的靶點(diǎn)(30)分別配置給不同的局部照射計(jì)劃。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，靶體積的靶點(diǎn)(30)在空間上交替地配置給子集(A、B、C、D)，和/或

子集(A、B、C、D)的靶點(diǎn)(30)分別僅被配置給其它子集的靶點(diǎn)相鄰地包圍，和/或

靶點(diǎn)(30)按行和/或按列地棋盤狀交替地配置給不同的子集(A、B、C、D)。

3.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，在局部照射計(jì)劃中當(dāng)借助于掃描粒子束(20)照射靶點(diǎn)(30)時(shí)跳過靶體積(34)的相鄰靶點(diǎn)，和/或

曲折形彼此交錯地照射靶體積中至少兩個子集(A、B、C、D)的靶點(diǎn)(30)。

4.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，靶體積(34)的每個靶點(diǎn)(30)正好配置給一個子集(A、B、C、D)。

5.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，這樣照射局部照射計(jì)劃的靶點(diǎn)(30)，使得不直接相繼地照射靶體積(34)的相鄰靶點(diǎn)。

6.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，設(shè)置在一個共同靶區(qū)(32)中的靶點(diǎn)(30)的數(shù)量等于局部照射計(jì)劃的數(shù)量，并且靶體積(34)的靶區(qū)分別相應(yīng)于掃描粒子束(20)的預(yù)期的射束直徑。

7.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，設(shè)置在一個共同靶區(qū)(32)中的靶點(diǎn)(30)分別配置給不同的子集(A、B、C、D)，并且靶體積(34)的靶區(qū)分別相應(yīng)于掃描粒子束(20)的預(yù)期的射束直徑。

8.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，設(shè)置在一個共同靶區(qū)(32)中的靶點(diǎn)(30)分別正好配置給一個子集(A、B、C、D)，并且靶體積(34)的靶區(qū)分別相應(yīng)于掃描粒子束(20)的預(yù)期的射束直徑。

9.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，每個局部照射計(jì)劃分別照射最多一個設(shè)置在一個共同靶區(qū)(32)中的靶點(diǎn)(30)。

10.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，靶體積(34)的靶點(diǎn)(30)設(shè)置在等能量層(341至347)中并且每個等能量層包含多個子集(A、B、C、D)的靶點(diǎn)。

11.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，靶體積(34)的靶點(diǎn)(30)設(shè)置在等能量層(341至347)中并且分別連續(xù)地照射等能量層中至少一個子集(A、B、C、D)的靶點(diǎn)或分別交替地按行和按列照射等能量層中至少一個子集(A、B、C、D)的靶點(diǎn)。

12.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，靶體積(34)的靶點(diǎn)(30)設(shè)置在等能量層(341至347)中并且在局部照射計(jì)劃中分別跳過靶體積的每第二行或每第二列的靶點(diǎn)。

13.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，照射計(jì)劃包括至少四個局部照射計(jì)劃。

14.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中，為定義局部照射計(jì)劃數(shù)量，考慮靶區(qū)(32)的數(shù)量、局部運(yùn)動參數(shù)和/或預(yù)先計(jì)算的、通過先前照射其它靶點(diǎn)(30)產(chǎn)生的前劑量。

15.一種用于照射設(shè)備(10)的控制裝置，該照射設(shè)備提供掃描粒子束(20)，該控制裝置包括控制單元(86)，該控制單元在照射時(shí)控制照射設(shè)備，以便借助于掃描粒子束(20)照射設(shè)置在體(77)中的靶體積(34)的靶點(diǎn)(30)，并且靶點(diǎn)(30)按子集(A、B、C、D)分配給在時(shí)間上待連續(xù)被實(shí)施的局部照射計(jì)劃，并且子集分別分布在整個靶體積上，并且彼此相鄰的靶點(diǎn)分別配置給不同的子集。