[發(fā)明專利]用于核反應(yīng)堆的冷卻劑回路的組件的表面去污的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380069696.7 | 申請日： | 2013-12-11 |
| 公開（公告）號： | CN104903969A | 公開（公告）日： | 2015-09-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 路易斯·森佩雷貝爾達;約瑟·佩德羅·莫雷拉多阿馬拉爾;克里斯蒂安·托夫 | 申請（專利權(quán)）人： | 阿海琺有限公司 |
| 主分類號： | G21F9/00 | 分類號： | G21F9/00;G21F9/30;G21F9/28 |
| 代理公司： | 北京安信方達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人： | 高瑜;程爽 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 核反應(yīng)堆 冷卻劑 回路 組件 表面 去污 方法 | ||
1.一種化學去污的方法，其用于對核反應(yīng)堆的冷卻劑系統(tǒng)的金屬組件的、具有氧化層的表面進行化學去污，所述方法包括：至少一個氧化步驟，在所述氧化步驟中用含有氧化劑的水性溶液對所述氧化層進行處理；以及，后續(xù)的去污步驟，在所述去污步驟中用去污酸的水性溶液對所述氧化層進行處理，所述去污酸具有與金屬離子，特別是鎳離子形成微溶性沉淀物的特性，其特征在于，在實施所述去污步驟之前借助于陽離子交換器將在所述氧化步驟中進入溶液的金屬離子從所述水性溶液中去除。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，在去除所述金屬離子之前執(zhí)行還原步驟，在所述還原步驟中借助于還原劑將所述水性溶液中存在的氧化劑中和。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，將在后續(xù)的去污步驟中使用的所述去污酸用作還原劑。
4.如前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其特征在于，水性溶液中的至少一部分被引導(dǎo)通過陽離子交換器，這時會將水性溶液中所含的金屬離子去除。
5.如前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其特征在于，在所述氧化步驟中使用高錳酸或高錳酸鹽。
6.如前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其特征在于，使用草酸作為去污酸。
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