[發(fā)明專利]含氮雜環(huán)化合物

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380069470.7
• 申請(qǐng)日: 2013-11-29
• 公開（公告）號(hào): CN104995173A
• 公開（公告）日: 2015-10-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 內(nèi)田賢司;金井壽美;本間正一;荒武誠士;石森達(dá)也
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 協(xié)和發(fā)酵麒麟株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C07D213/82
• 分類號(hào): C07D213/82;A61K31/4545;A61K31/4725;A61K31/496;A61K31/497;A61K31/506;A61K31/5377;A61P17/00;A61P17/06;A61P43/00;C07D401/06;C07D401/14;C07
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 楊青;穆德駿

1.一種由式(I)表示的含氮雜環(huán)化合物或其可藥用鹽，

(其中，X^A表示CH或氮原子，

R¹表示任選地具有取代基的環(huán)烷基、任選地具有取代基的芳基、任選地具有取代基的芳香族雜環(huán)基或任選地具有取代基的脂族雜環(huán)基，

L表示鍵或亞烷基，

Y^A表示-NH-、-O-、-NH-C(＝O)-、-S-、-NH-NR^1a-(其中R^1a表示低級(jí)烷基)或鍵(條件是Y^A和L不同時(shí)表示鍵)，

R²表示氫原子、氰基、鹵素、任選地具有取代基的低級(jí)烷基或任選地具有取代基的低級(jí)烷氧基，

R^3A表示下式(R^3A-1)或(R^3A-2)

{其中，R³表示羥基、任選地具有取代基的低級(jí)烷基、任選地具有取代基的芳基或-NR^3aR^3b[其中，R^3a與R^3b相同或不同，并各自表示氫原子、任選地具有取代基的低級(jí)烷基、任選地具有取代基的低級(jí)烷氧基、任選地具有取代基的環(huán)烷基、任選地具有取代基的芳基、任選地具有取代基的芳香族雜環(huán)基、任選地具有取代基的脂族雜環(huán)基或-C(＝O)R^3c(其中，R^3c表示任選地具有取代基的低級(jí)烷基、任選地具有取代基的低級(jí)烷氧基、任選地具有取代基的低級(jí)烷基氨基、任選地具有取代基的環(huán)烷基氨基或任選地具有取代基的環(huán)烷基)，或者R^3a和R^3b與相鄰的氮原子一起形成任選地具有取代基的含氮雜環(huán)基]，并且

R^3d表示氫原子、低級(jí)鏈烷酰基、芳酰基或低級(jí)烷基氨甲酰基}，并且

R^4A表示下式(R^4A-1)、(R^4A-2)、(R^4A-3)、(R^4A-4)、(R^4A-5)或(R^4A-6)

[其中，R⁴與R⁵相同或不同，并各自表示氫原子、羥基、氰基、任選地具有取代基的低級(jí)烷基、任選地具有取代基的芳基、任選地具有取代基的低級(jí)烷氧基或-C(＝O)R^4c(其中R^4c表示氨基、任選地具有取代基的烷基或任選地具有取代基的低級(jí)烷氧基)，或者R⁴和R⁵與相鄰的碳原子一起形成任選地具有取代基的脂族雜環(huán)基，R⁶、R⁷、R⁸和R⁹表示任選地具有取代基的芳基，R¹⁰與R¹¹相同或不同，并各自表示氫原子、羥基、氰基、任選地具有取代基的低級(jí)烷基、任選地具有取代基的芳基、任選地具有取代基的低級(jí)烷氧基或-C(＝O)R^4c(其中R^4c表示氨基、任選地具有取代基的烷基或任選地具有取代基的低級(jí)烷氧基)，或者R¹⁰和R¹¹與相鄰的碳原子一起形成任選地具有取代基的脂族雜環(huán)基])。

2.權(quán)利要求1的含氮雜環(huán)化合物或其可藥用鹽，其中X^A是CH。

3.權(quán)利要求1或2的含氮雜環(huán)化合物或其可藥用鹽，其中L是鍵。

4.權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)的含氮雜環(huán)化合物或其可藥用鹽，其中Y^A是-NH-或-O-。

5.權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)的含氮雜環(huán)化合物或其可藥用鹽，其中R¹是任選地具有取代基的芳基。

6.權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)的含氮雜環(huán)化合物或其可藥用鹽，其中R²是氫原子、鹵素或任選地具有取代基的低級(jí)烷基。

7.權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)的含氮雜環(huán)化合物或其可藥用鹽，其中R²是氫原子。