[發(fā)明專利]光學(xué)元件、投影裝置和光學(xué)元件的制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380068482.8
• 申請日: 2013-12-25
• 公開（公告）號: CN104871043A
• 公開（公告）日: 2015-08-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 宮坂浩司;山下周一
• 申請（專利權(quán)）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02;G03B21/00;G03B21/14;H04N5/74
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種光學(xué)元件，其特征在于，

在基材的表面形成有多個凹部，

所述凹部具有由曲面形成的曲面部，

多個所述凹部形成為：所述凹部的底部的位置在深度方向上為兩個以上的不同的位置，

在將所述基材的折射率設(shè)為n1、將所述基材的周圍的介質(zhì)的折射率設(shè)為n2、將向所述基材入射的光束的波長設(shè)為λ并且將多個所述凹部的底部的深度方向上的范圍設(shè)為Δd的情況下，

2/7≤|(n1－n2)×Δd|/λ≤10。

2.一種光學(xué)元件，其特征在于，

在基材的表面形成有多個凸部，

所述凸部具有由曲面形成的曲面部，

多個所述凸部形成為：所述凸部的頂峰部的位置在高度方向上為兩個以上的不同的位置，

在將所述基材的折射率設(shè)為n1、將所述基材的周圍的介質(zhì)的折射率設(shè)為n2、將向所述基材入射的光束的波長設(shè)為λ并且將多個所述凸部的頂峰部的高度方向上的范圍設(shè)為Δd的情況下，

2/7≤|(n1－n2)×Δd|/λ≤10。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)元件，其特征在于，

所述光學(xué)元件透射光。

4.一種光學(xué)元件，其特征在于，

在基材的表面形成有多個凹部，

所述凹部具有由曲面形成的曲面部，

多個所述凹部形成為：所述凹部的底部的位置在深度方向上為兩個以上的不同的位置，

在將所述基材的周圍的介質(zhì)的折射率設(shè)為n2、將向所述基材的光束入射的波長設(shè)為λ并且將多個所述凹部的底部的深度方向上的范圍設(shè)為Δd的情況下，

2/7≤|2×n2×Δd|/λ≤10。

5.一種光學(xué)元件，其特征在于，

在基材的表面形成有多個凸部，

所述凸部具有由曲面形成的曲面部，

多個所述凸部形成為：所述凸部的頂峰部的位置在高度方向上為兩個以上的不同的位置，

在將所述基材的周圍的介質(zhì)的折射率設(shè)為n2、將向所述基材入射的光束的波長設(shè)為λ并且將多個所述凸部的頂峰部的高度方向上的范圍設(shè)為Δd的情況下，

2/7≤|2×n2×Δd|/λ≤10。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的光學(xué)元件，其特征在于，

所述光學(xué)元件反射光。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的光學(xué)元件，其特征在于，

所述底部按預(yù)定的周期排列。

8.根據(jù)權(quán)利要求2或5所述的光學(xué)元件，其特征在于，

所述頂峰部按預(yù)定的周期排列。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的光學(xué)元件，其特征在于，

所述底部不規(guī)則地形成，

在由二等分線包圍的區(qū)域內(nèi)存在有一個所述底部，該二等分線是所述底部按預(yù)定的周期排列的情況下的、相鄰的點之間的二等分線。

10.根據(jù)權(quán)利要求2或5所述的光學(xué)元件，其特征在于，

所述頂峰部不規(guī)則地形成，

在由二等分線包圍的區(qū)域內(nèi)存在有一個所述頂峰部，該二等分線是所述頂峰部按預(yù)定的周期排列的情況下的、相鄰的點之間的二等分線。

11.根據(jù)權(quán)利要求1、4、7、9中任意一項所述的光學(xué)元件，其特征在于，

所述底部具有平坦部。

12.根據(jù)權(quán)利要求2、5、8、10中任意一項所述的光學(xué)元件，其特征在于，

所述頂峰部具有平坦部。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的光學(xué)元件，其特征在于，

所述平坦部包括兩種以上大小的平坦部。

14.一種投影裝置，其中，

該投影裝置包括：

權(quán)利要求1～13中任意一項所述的光學(xué)元件；以及

光源，其用于射出向所述光學(xué)元件入射的光。