[發明專利]利用流孔封閉膜的薄膜閥裝置有效
| 申請號: | 201380068405.2 | 申請日: | 2013-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN105051437A | 公開(公告)日: | 2015-11-11 |
| 發明(設計)人: | 柳在泉 | 申請(專利權)人: | 成均館大學校產學協力團;美事爬握株式會社 |
| 主分類號: | F16K37/00 | 分類號: | F16K37/00;F16K31/64;F16K49/00 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 張晶;王瑩 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 封閉 薄膜 裝置 | ||
1.一種薄膜閥裝置,包括:
一個以上的腔室,能夠儲存生物學或生化學分析所需的流體,或執行生物學或生化學的反應;
流路,連接所述一個以上的腔室,能夠使所述流體移動;
流孔,連通地設置在所述流路上;
多個基底,通過疊層而形成所述流路、所述流孔及所述腔室;
流孔封閉膜,用于封閉所述流孔,并由黑色隔膜構成;
至少一個以上的薄膜閥,由所述流孔和所述流孔封閉膜構成,而控制流體的移動;
圓形光盤,由所述疊層的多個基底、所述流路、所述流孔、所述腔室及所述流孔封閉膜集成為一體,且可旋轉;
激光束發生裝置,通過向所述流孔封閉膜供應熱源而開放流孔;
光傳感器,用于測量從所述激光束發生裝置發射而出的激光束透過所述流孔封閉膜的光的強度,或者用于測量所述激光束透過所述流孔封閉膜反射回來的光的強度;
聚焦促動器,用于改變對所述流孔封閉膜的所述激光束的焦距;
反饋控制裝置,通過所述光傳感器而接收透過所述流孔封閉膜的所述激光束發生裝置的光的強度,從而調節所述聚焦促動器。
2.根據權利要求1所述的薄膜閥裝置,其特征在于,所述薄膜閥裝置進一步包括:光傳感器陣列,多個所述光傳感器向所述光盤的徑向排列成一列;滑動器,裝載所述激光束發生裝置,用于將所述激光束發生裝置向所述光盤的徑向移動,
其中,所述光傳感器陳列被設置成與激光束發生裝置通過在中間設置的光盤相對而置。
3.根據權利要求1所述的薄膜閥裝置,其特征在于,所述流孔封閉膜的開放是通過將從激光束發生裝置輸出的脈沖束流或連續束流照射到流孔封閉膜而得以實現。
4.根據權利要求3所述的薄膜閥裝置,其特征在于,所述光盤進一步包括用于覆蓋除所述流孔封閉膜以外的所述光盤的外部面的光線阻斷涂布裝置,并將所述連續束流在所述光盤的旋轉驅動期間持續開啟,同時通過所述光傳感器陳列而接收的光的強度增加到標準限度以上的情況下,在該相應位置上停止所述光盤的旋轉的狀態下,將所述流孔封閉膜進行加熱而開放流孔。
5.根據權利要求1所述的薄膜閥裝置,其特征在于,在所述流孔開放的情況下,所述反饋控制裝置識別出通過所述光傳感器接收的光的強度增加到基準限度以上,并關閉所述激光束發生裝置,或者,如果經過加熱后,光的強度仍然沒有增加到基準限度以上,則可以判斷出所述薄膜閥的搜索出現錯誤,然后,繼續旋轉所述光盤,繼續進行對所述薄膜閥位置的方位角的搜索。
6.根據權利要求1所述的薄膜閥裝置,其特征在于,所述薄膜閥裝置進一步包括:
驅動馬達,用于旋轉所述光盤;
標準反射板或薄膜圓柱磁鐵,被裝載在所述光盤上,并提供方位角標準;以及
電磁鐵或永久磁鐵,用于產生對所述薄膜圓柱磁鐵的磁力。
7.根據權利要求6所述的薄膜閥裝置,其特征在于,進一步包括:
滑動器,用于裝載并移動所述激光束發生裝置及永久磁鐵;
滑動器馬達,用于控制所述滑動器向所述光盤的徑向移動;以及
中央控制裝置,用于通過驅動控制所述激光束發生裝置、所述驅動馬達及所述滑動器馬達,而執行對所述薄膜閥的空間尋址,
通過所述激光束發生裝置的熱源,而選擇性地開閉所述光盤上的流孔封閉膜。
8.根據權利要求6所述的薄膜閥裝置,其特征在于,所述激光束發生裝置和所述光傳感器一一對應地被設置在所述多個薄膜閥上,
進一步包括,用于提供所述方位角標準的所述薄膜圓柱磁鐵或用于執行對所述標準反射板的空間尋址的中央控制裝置,
所述中央控制裝置在完成對所述方位角標準的空間尋址后,開啟對應于需開放的薄膜閥的激光束發生裝置,從而選擇性地開放所述流孔封閉膜。
9.根據權利要求6所述的薄膜閥裝置,其特征在于,所述電磁鐵在開啟的狀態下,在所述光盤慢速旋轉的過程中,通過與光盤上的永久磁鐵的空間排列,得以實現對薄膜閥的空間尋址。
10.根據權利要求1所述的薄膜閥裝置,其特征在于,所述黑色隔膜是通過吸收由激光束產生的能量而散熱的多數微細散熱粒子一同包含在涂料中而被涂布在薄膜膠粘帶上的流孔部位而形成,或者黑色涂料被涂布在薄膜膠粘帶上的流孔部位而形成。
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