[發明專利]膜陣列的形成及其裝置

有效

• 申請號: 201380068197.6
• 申請日: 2013-10-23
• 公開（公告）號: CN104918696B
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發明（設計）人: 詹森·羅伯特·海德;佩德羅·米格爾·奧爾蒂斯·巴阿蒙;克萊夫·加文·布朗;安德魯·約翰·赫倫;保羅·雷蒙德·麥基特
• 申請（專利權）人: 牛津楠路珀爾科技有限公司
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;B01L3/00;G01N33/487
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 張英;宮傳芝

1.一種形成包含兩親性分子的膜陣列的方法，所述方法包括：

提供包含支撐物的裝置，所述支撐物包含限定具有極性介質可以通過其引入的開孔的區室陣列的分隔件，所述分隔件包含內部部分和外部部分，所述內部部分限定其間無間隙的所述區室的內部凹陷，其中所述內部部分能夠限制可以布置在鄰近的內部凹陷內的含極性介質的體積相互接觸，以及所述外部部分從所述內部部分向外延伸，并具有允許非極性介質通過間隙在所述區室之間流動的所述間隙；

將極性介質和非極性介質布置于所述支撐物上以在各個區室內提供含極性介質的體積，從而使所述含極性介質的體積受限而不會接觸在鄰近區室中含極性介質的體積，而包含非極性介質的層延伸穿過所述支撐物中的開孔與所述含極性介質的體積接觸；和

將極性介質流動穿過所述支撐物中的開孔以取代非極性介質，并且形成延伸穿過所述支撐物中的開孔與所述含極性介質的體積接觸的含極性介質的層，和在所述含極性介質的層與所述含極性介質的體積之間的界面上含兩親性分子的膜。

2.根據權利要求1所述的方法，其中將極性介質和非極性介質布置于所述支撐物之上的步驟包括：

將極性介質布置于所述支撐物上而使所述極性介質通過所述開孔進入所述區室中；和

隨后提供所述包含非極性介質的層。

3.根據權利要求2所述的方法，其中將極性介質布置于所述支撐物上的步驟包括將極性介質流動穿過所述支撐物而使所述極性介質通過所述開孔進入所述區室中。

4.根據權利要求3所述的方法，其中將極性介質和非極性介質布置于所述支撐物之上的步驟包括，在將極性介質流動穿過所述支撐物的步驟和提供所述包含非極性介質的層的步驟之間，使一種氣體流動穿過所述支撐物以取代過量的極性介質，在所述區室中留下所述含極性介質的體積。

5.根據權利要求3所述的方法，其中提供所述包含非極性介質的層的步驟包括使非極性介質流動穿過所述支撐物以取代過量的極性介質，從而在所述區室中留下所述含極性介質的體積，以及所述含非極性介質的層延伸穿過所述支撐物中的開孔與所述含極性介質的體積接觸。

6.根據權利要求1所述的方法，其中將極性介質和非極性介質布置于所述支撐物之上的步驟包括將極性介質的體積注入到相應區室中。

7.根據權利要求6所述的方法，其中將極性介質和非極性介質布置于所述支撐物之上的步驟進一步包括，在將極性介質的體積注入到每一區室中之后，提供所述包含非極性介質的層。

8.根據權利要求2～7中任一項所述的方法，其中提供所述包含非極性介質的層的所述步驟包括使非極性介質流動穿過所述支撐物。

9.根據權利要求2～7中任一項所述的方法，進一步包括在將極性介質和非極性介質布置于所述支撐物之上的步驟之前通過預處理用非極性介質來預處理所述支撐物。

10.根據權利要求9所述的方法，其中所述預處理用非極性介質并不包含兩親性分子。

11.根據權利要求2～7中任一項所述的方法，其中所述包含非極性介質的層進一步包含所述兩親性分子。

12.根據權利要求2～7中任一項所述的方法，其中流動穿過所述支撐物中的開孔的所述極性介質進一步包含所述兩親性分子。

13.根據權利要求1所述的方法，其中將極性介質和非極性介質布置于所述支撐物之上的步驟包括形成包含在非極性介質中的極性介質的體積的乳液，以及使所述乳液流過所述支撐物以通過所述開孔在所述區室中在所述非極性介質內提供所述含極性介質的體積。

14.根據權利要求13所述的方法，其中所述乳液進一步包含所述兩親性分子。