[發明專利]使用高溫計對錐形燈頭內的燈進行的多區域控制

有效

• 申請號: 201380068121.3
• 申請日: 2013-11-15
• 公開（公告）號: CN104871299B
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發明（設計）人: 約瑟夫·M·拉內什;保羅·布里爾哈特;喬斯·安東尼奧·馬林;薩瑟施·庫珀奧;巴拉蘇布拉馬尼恩·拉馬錢德雷;斯瓦米納坦·T·斯里尼瓦桑;穆罕默德·圖格魯利·薩米爾
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01L21/324
• 分類號: H01L21/324
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種基板處理設備，包括：

真空腔室，所述真空腔室包含透明拱形結構與透明底板；

盤狀基板支撐件，所述基板支撐件設置在所述真空腔室內；

多個熱燈，所述多個熱燈布置在燈頭中并定位成靠近所述真空腔室的所述透明底板，其中所述燈頭具有在所述燈之間的冷卻通道；

多個熱傳感器，所述多個熱傳感器設置在所述燈頭的所述冷卻通道中并被定向以接收來自靠近所述基板支撐件的區域的熱輻射；

多個電源，所述多個電源耦接至與所述熱傳感器的位置相關的所述熱燈；及

控制器，所述控制器根據來自所述熱傳感器的輸入來調整所述電源。

2.如權利要求1所述的基板處理設備，其中所述熱傳感器接收穿過所述透明底板的熱輻射。

3.如權利要求2所述的基板處理設備，其中所述基板支撐件具有低熱質量，且所述熱傳感器接收由所述基板發射且由所述基板支撐件傳輸的熱輻射。

4.如權利要求3所述的基板處理設備，進一步包括反射體，所述反射體被設置成靠近所述透明拱形結構，所述反射體與所述透明拱形結構共同界定熱控制空間。

5.如權利要求4所述的基板處理設備，進一步包括用于熱控制流體的入口以及用于所述熱控制流體的出口，所述入口設置穿過所述反射體而與所述熱控制空間流體連通，所述出口設置穿過所述反射體而與所述熱控制空間流體連通。

6.如權利要求5所述的基板處理設備，其中所述透明拱形結構與所述透明底板都是石英。

7.如權利要求6所述的基板處理設備，進一步包括熱傳感器，所述熱傳感器設置成靠近所述透明拱形結構。

8.如權利要求7所述的基板處理設備，其中所述熱傳感器設置在所述反射體中。

9.如權利要求8所述的基板處理設備，其中設置在所述燈頭內的每個熱傳感器觀測所述基板的一區域。

10.如權利要求9所述的基板處理設備，其中設置在所述燈頭內的所述熱傳感器被定位在所述燈之間。

11.一種處理基板的方法，包括以下步驟：

將所述基板設置在具有透明底板的腔室中；

通過使來自多個燈的輻射透射穿過所述透明底板來加熱所述基板，其中所述多個燈布置在燈頭中并定位成靠近所述腔室的所述透明底板，并且其中所述燈頭具有在所述燈之間的冷卻通道；

通過使前驅物氣體實質上平行于所述基板的表面而流過所述基板來沉積層于所述基板上；

使用設置在所述燈頭的所述冷卻通道中且靠近所述透明底板的第一傳感器來檢測所述基板的第一區域處的第一溫度；

使用設置在所述燈頭的所述冷卻通道中且靠近所述透明底板的第二傳感器來檢測所述基板的第二區域處的第二溫度；

依據所述第一溫度調整至所述多個燈的第一部分的功率；及

依據所述第二溫度調整至所述多個燈的第二部分的功率。

12.如權利要求11所述的方法，進一步包括以下步驟：

從所述腔室移除所述基板；

使清潔氣體流進所述腔室，所述清潔氣體包含氯、溴或碘；

從所述腔室移除所述清潔氣體；及

將第二基板設置在所述腔室中以用于處理。

13.如權利要求12所述的方法，其中當使所述清潔氣體流進所述腔室時，維持或升高所述腔室的溫度。

14.如權利要求13所述的方法，其中所述第一區域被定位成與所述基板的中心相距第一徑向距離，所述第二區域被定位成與所述基板的所述中心相距第二徑向距離，且所述第一徑向距離與所述第二徑向距離不同。

15.如權利要求14所述的方法，進一步包括維持橫跨所述基板的溫度梯度。