[發明專利]偏振光分束器、基板處理裝置、器件制造系統及器件制造方法在審
| 申請號: | 201380067898.8 | 申請日: | 2013-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN104885012A | 公開(公告)日: | 2015-09-02 |
| 發明(設計)人: | 加藤正紀;鈴木哲男;鐮田剛忠;荒井正范;北纮典 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | G03F7/24 | 分類號: | G03F7/24;G02B5/04;G02B5/08;G02B5/30;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 陳偉;王娟娟 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 偏振光 分束器 處理 裝置 器件 制造 系統 方法 | ||
1.一種基板處理裝置,具備:
光罩保持部件,其保持反射型的光罩;
分束器,其將入射的照明光束朝向所述光罩反射,并且使所述照明光束被所述光罩反射而得到的投影光束透射;
照明光學組件,其使所述照明光束向所述分束器入射;和
投影光學組件,其將透射過了所述分束器的所述投影光束投影至光感應性的基板,
將所述照明光束向所述光罩引導的照明光學系統包括所述照明光學組件和所述分束器,
將所述投影光束向所述基板引導的投影光學系統包括所述投影光學組件和所述分束器,
所述照明光學組件及所述分束器設于所述光罩與所述投影光學組件之間。
2.根據權利要求1所述的基板處理裝置,其中,
所述照明光學系統包括將基于所述照明光束得到的所述光罩上的照明區域限制為矩形的光學部件,
所述照明光學組件具有供所述照明光束入射并將其朝向所述分束器射出的第1透鏡,
所述第1透鏡成形為具有與所述照明光束所通過的第1入射區域對應的形狀的外形。
3.根據權利要求2所述的基板處理裝置,其中,
所述第1透鏡為將外形為圓形的透鏡的一部分切除而得到的形狀。
4.根據權利要求2或3所述的基板處理裝置,其中,
所述第1透鏡與所述分束器相鄰地配置。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的基板處理裝置,其中,
所述投影光學組件具有供來自所述分束器的所述投影光束入射的第2透鏡,
所述第2透鏡成形為具有與朝向所述光感應性的基板上的投影區域的所述投影光束所通過的第2入射區域對應的形狀的外形。
6.根據權利要求5所述的基板處理裝置,其中,
所述第2透鏡為將外形為圓形的透鏡的一部分切除而得到的形狀。
7.根據權利要求5或6所述的基板處理裝置,其中,
所述第2透鏡與所述分束器相鄰地配置。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的基板處理裝置,其中,
所述基板處理裝置還具備通過支承面支承所述基板的基板支承部件,
所述光罩的光罩面沿以第1軸為中心的成為第1曲率半徑的第1圓周面而形成,
所述基板支承部件的所述支承面沿以第2軸為中心的成為第2曲率半徑的第2圓周面而形成,
所述第1軸與所述第2軸平行,
將從所述第1軸及所述第2軸通過的中心面與所述投影光束的主光線的、在所述光罩面的第1圓周面的周向所成的角度設為θ時,
入射至所述分束器的所述照明光束的主光線的入射角β在45°×0.8≤β≤(45°+θ/2)×1.2的范圍內。
9.根據權利要求1至8中任一項所述的基板處理裝置,其中,
所述基板處理裝置還具備通過支承面支承所述基板的基板支承部件,
所述光罩的光罩面沿以第1軸為中心的成為第1曲率半徑的第1圓周面而形成,
所述基板支承部件的所述支承面沿以第2軸為中心的成為第2曲率半徑的第2圓周面而形成,
所述第1軸與所述第2軸平行,
所述照明光學系統與形成于所述光罩上的多個照明區域對應地設有多個,多個所述照明光學系統將所述照明光束向多個所述照明區域引導,
所述投影光學系統與多個所述照明光學系統對應地設有多個,多個所述投影光學系統將來自多個所述照明區域的多條所述投影光束向形成于所述基板上的多個投影區域引導,
多個所述照明光學系統及多個所述投影光學系統在所述光罩的周向排列成兩列而配置,
第1列的照明光學系統及第1列的投影光學系統、與第2列的照明光學系統及第2列的投影光學系統,夾著從所述第1軸及所述第2軸通過的中心面而對稱地配置。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的基板處理裝置,其中,
所述分束器為偏振光分束器,所述基板處理裝置還具備設于所述偏振光分束器與所述光罩之間的波片,
所述波片改變從所述偏振光分束器朝向所述光罩的所述照明光束的偏振狀態,并且還改變從所述光罩入射至所述偏振光分束器的所述投影光束的偏振狀態。
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