[發明專利]保護性組合物有效
| 申請號: | 201380067712.9 | 申請日: | 2013-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN104871040B | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發明(設計)人: | R·A·M·希克梅特;T·范博梅爾 | 申請(專利權)人: | 飛利浦照明控股有限公司 |
| 主分類號: | G02B1/04 | 分類號: | G02B1/04 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 陳文平;侯寶光 |
| 地址: | 荷蘭艾恩*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 保護性 組合 | ||
一種用于光電設備的保護性組合物,所述保護性組合物包含有機金屬吸氣劑,所述有機金屬吸氣劑能夠與硫和/或硒反應以形成含有金屬和硫和/或硒的晶體。所述保護性組合物可以形成層或光學部件。有利地,所述保護性組合物有效地除去硫化物氣體并且導致穩定的晶體的形成,并且不只是減少所述氣體的滲透速率。所生成的晶體通常具有高透明度和低光吸收。
技術領域
本發明涉及用于在光電設備中防護有害物質的材料和部件以及包 含這種材料和部件的發光裝置。
背景技術
在許多情況下,腐蝕性氣體(例如H2S)的存在或形成是一個問題。 例如,在使用銀反射器的照明裝置中,銀與周圍氣體中存在的硫化物氣 體的反應導致銀的變黑并且因此損壞了反射器的功能。
在一些基于熒光體轉換光源的發光裝置中,硫化物氣體可以從含硫 熒光材料,通常是基于硫化物材料(例如硫化鈣(CaS)、硫化鍶(SrS)、 硫化鋅(ZnS)或其組合例如(Ca,Sr)S)的熒光體釋放出來。基于硫化物 的熒光體對水特別敏感,并且可以反應形成氫氧化鈣或氫氧化鍶和硫化 物氣體。除了銀反射器變黑之外,H2S的釋放也是一個問題,因為H2S是一種有毒的、易燃的并且惡臭的氣體。而且,基于Ca或Sr的硒化物 或硫化物的熒光體與水反應還會釋放出少量的高毒性的硒化物氣體。
期望不僅阻止腐蝕性和/或毒性氣體到達銀層,而且阻止該氣體從 設備逃脫。
為了阻止銀反射器變黑,已經提出了保護層。然而,這種保護層通 常具有差的抗擦性,并且由于銀通常用作電導體并且必須連接導線,直 接將絕緣保護層應用于銀層可能也不理想。而且,制備這種層而不含針 孔(氣體可以通過所述針孔泄露)幾乎不可能。
US 2009/0121180建議了包含負載二氧化硅的硅氧烷組合物的保護 性組合物,可用于包封光電設備。所述組合物包含硅氧烷接枝的二氧化 硅顆粒并得到高度透明并且具有低的腐蝕性氣體滲透速率的固化硅氧 烷組合物。然而,低滲透速率并不解決問題,而是將其延遲。
因此,在防止或減少對照明裝置中的毒性和/或腐蝕性氣體的有害作用 方面,本領域存在改善的需要。
發明內容
本發明的目的是克服該問題并提供適用于光電設備的捕獲硫的手段。
根據本發明的第一方面,通過用于光電設備的保護性組合物達到了這個 和其它的目的,所述保護性組合物包含有機金屬吸氣劑(organometallic getter),所述有機金屬吸氣劑能夠與硫和/或硒反應形成含有金屬與硫和/或 硒的晶體,通常是納米晶體。晶體根據下式形成:
H2Z+MX→MZ+XH2
其中H2Z代表硫化物氣體或硒化物氣體,M代表有機金屬吸氣劑的金 屬部分,選自銅、鐵、鎘、鉛和鋅,X代表有機金屬吸氣劑的有機部分,并 且MZ代表形成的晶體。
通常,術語“吸氣劑”表示反應活性物質,所述反應活性物質通過吸收和 /或化學結合與目標物質相互作用以固定所述目標物質。用于本發明的吸氣劑 主要通過化學結合所述目標物質起作用。在本發明中,所述目標物質通常是 硫/硫化物或硒/硒化物。所述吸氣劑和所述目標物質之間的化學相互作用通 常可以是離子結合。
通過與吸氣劑反應除去硫化物氣體是有利的,因為所述反應導致穩定晶 體的形成,并且不僅僅是減少所述氣體的滲透速率。所生成的晶體通常具有 高透明度和低光吸收。在本發明的實施方式中,包含所述吸氣劑的所述組合 物(與硫化物氣體反應之前)還可以具有低光吸收,這使得包含所述吸氣劑 的所述組合物特別適用于光電設備。此外,使用常規技術容易制備所述組合 物。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于飛利浦照明控股有限公司,未經飛利浦照明控股有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380067712.9/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





