[發(fā)明專(zhuān)利]為了抵消量波動(dòng)的用于還原工藝中的出口氣體的過(guò)熱以及裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380067519.5
• 申請(qǐng)日: 2013-10-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104968807A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-10-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: R.米爾納;G.羅森費(fèi)爾納
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 首要金屬科技奧地利有限責(zé)任公司
• 主分類(lèi)號(hào): C21B5/06
• 分類(lèi)號(hào): C21B5/06;C21B13/14
• 代理公司: 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄧雪萌;宣力偉

1.?一種方法，其用于抵消量波動(dòng)同時(shí)同步地增加用于還原工藝(1)中的出口氣體(2)的溫度，所述方法包括如下方法步驟：

冷卻至少一個(gè)循環(huán)氣體冷卻器(5)中的循環(huán)氣體(4)的第一部分的量(3)，以形成冷循環(huán)氣體(6)，以及

以壓力受控制的和/或量受控制的方式添加冷循環(huán)氣體(6)到出口氣體(2)，從而抵消出口氣體(2)的量波動(dòng)，

其特征在于，

循環(huán)氣體(4)的第二部分的量以壓力受控制的和/或量受控制的方式被創(chuàng)造性地添加到出口氣體(2)作為熱循環(huán)氣體(7)，所述熱循環(huán)氣體(7)具有的溫度高于冷循環(huán)氣體(6)，在此之后包括冷循環(huán)氣體(6)和熱循環(huán)氣體(7)的出口氣體混合物(8)被引入還原工藝(1)，并且其中出口氣體混合物(8)的溫度高于出口氣體(2)的溫度。

2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，冷循環(huán)氣體(6)具有與出口氣體(2)基本上相同的溫度。

3.?根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，從出口氣體混合物(8)獲得的還原氣體(9)被引入用于金屬氧化物還原的還原單元(10)，其特征還在于，還原氣體(9)在金屬氧化物的至少部分還原之后作為爐頂煤氣(11)從還原單元(10)被抽出，并且其特征還在于，還原氣體(9)通過(guò)如下方法步驟獲得：

在至少一個(gè)出口氣體壓縮機(jī)(12)中壓縮出口氣體混合物(8)，以形成工藝氣體(13)，

可選地在工藝氣體冷卻器(29)中冷卻工藝氣體(13)和當(dāng)獲得還原氣體(9)時(shí)在CO₂消除裝置(14)中從工藝氣體(13)消除CO₂和/或H₂O，以及

在還原氣體加熱裝置(15)中加熱還原氣體(9)，

其中爐頂煤氣(11)的第一部分的量(16)，其優(yōu)選地被除塵和/或優(yōu)選地被冷卻，可能在壓縮之后被用作循環(huán)氣體(4)。

4.?根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述方法，其特征在于，熱循環(huán)氣體(7)的溫度的下限是80°C，優(yōu)選地100°C，熱循環(huán)氣體(7)的溫度的上限是180°C，優(yōu)選地150°C。

5.?根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述方法，其特征在于，出口氣體(2)包括來(lái)自煉鋼廠(chǎng)的氣體網(wǎng)絡(luò)的熔爐氣體和/或來(lái)自用于生產(chǎn)生鐵的設(shè)備和/或來(lái)自煤氣化設(shè)備和/或來(lái)自煉焦設(shè)備。

6.?根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述方法，其特征在于，在用于還原工藝(1)之前，出口氣體(2)在用于除塵和/或氣體凈化的裝置(17)中經(jīng)歷除塵和/或氣體凈化，其中熱循環(huán)氣體(7)和冷循環(huán)氣體(6)在除塵和/或氣體凈化之前被添加到出口氣體(2)。

7.?根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述方法，其特征在于，出口氣體混合物(8)的溫度在冷循環(huán)氣體(6)和熱循環(huán)氣體(7)的添加之前比出口氣體(2)的溫度高至多50°C，優(yōu)選地在2°C和15°C之間。

8.?根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述方法，其特征在于，出口氣體混合物(8)的溫度通過(guò)被添加到出口氣體混合物(8)的熱循環(huán)氣體(7)的量被調(diào)節(jié)到特定值。

9.?一種用于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述方法的裝置，其特征在于，所述裝置包括：

出口氣體管線(xiàn)(18)，其用于引入出口氣體混合物(8)到還原工藝(1)中，

循環(huán)氣體管線(xiàn)(19)和循環(huán)氣體管線(xiàn)(19)中的第一壓力調(diào)節(jié)裝置和/或第一量調(diào)節(jié)裝置(20)，其優(yōu)選地采取循環(huán)氣體壓縮機(jī)的形式，以及

起源于循環(huán)氣體管線(xiàn)(19)的冷循環(huán)氣體管線(xiàn)(21)和布置在冷循環(huán)氣體管線(xiàn)(21)中的循環(huán)氣體冷卻器(5)，

其特征在于，

提供熱循環(huán)氣體管線(xiàn)(22)，其起源于循環(huán)氣體管線(xiàn)(19)并具有布置在熱循環(huán)氣體管線(xiàn)(22)中的第二壓力調(diào)節(jié)裝置和/或第二量調(diào)節(jié)裝置(23)，其中冷循環(huán)氣體管線(xiàn)(21)和熱循環(huán)氣體管線(xiàn)(22)流入出口氣體管線(xiàn)(18)，或者冷循環(huán)氣體管線(xiàn)(21)和熱循環(huán)氣體管線(xiàn)(22)結(jié)合在返回管線(xiàn)(24)中，所述返回管線(xiàn)(24)流入出口氣體管線(xiàn)(18)。