[發明專利]用于碳離子注入的摻雜物組合物的儲存和負壓輸送有效
| 申請號： | 201380067226.7 | 申請日： | 2013-12-20 |
| 公開（公告）號： | CN104871286B | 公開（公告）日： | 2018-06-26 |
| 發明（設計）人： | A.K.辛哈;D.C.海德曼;L.A.布朗;S.M.坎珀;R.施;D.盧;邱文斌;高建綱 | 申請（專利權）人： | 普萊克斯技術有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;C23C14/34;F17C13/04;H01J37/08;H01J37/317 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 段菊蘭;呂彩霞 |
| 地址： | 美國康*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 供應源 摻雜物氣體 單一來源 混合物 摻雜物 碳離子 稀釋劑混合物 離子源設備 稀釋劑氣體 負壓輸送 負壓條件 體積比率 預先混合 注入性能 氫氣 控制量 備選 排流 受控 套件 氙氣 儲存 響應 引入 | ||
1.摻雜物氣體混合物的單一供應源，其包含：
一種或更多種的含碳摻雜物源氣體，其以預先確定的濃度與稀釋劑氣體混合物預先混合，所述一種或更多種的含碳摻雜物源氣體至少包含CO，且所述稀釋劑氣體混合物包含惰性氣體和含氫氣體；和
負壓輸送和儲存裝置，其用于維持在所述裝置的內部體積內的所述摻雜物氣體混合物處于加壓狀態，所述輸送裝置與排流路徑是流體相通的，其中所述輸送裝置響應沿所述排流路徑所達到的負壓條件而啟動以允許所述摻雜物氣體混合物從所述裝置的內部體積受控流出。
2.權利要求1的摻雜物氣體混合物的單一供應源，其中所述惰性氣體選自氙氣、氬氣、氖氣、氪氣或它們的任何組合。
3.權利要求1的摻雜物氣體混合物的單一供應源，其中所述一種或更多種的含碳摻雜物源氣體選自C2F6、CF4、C4F8、C2F4、CH4、C2H2和它們的混合物。
4.權利要求1的摻雜物氣體混合物的單一供應源，其中所述一種或更多種的含碳摻雜物源氣體為CO，并且所述稀釋劑氣體混合物基本上由氙氣和氫氣組成。
5.權利要求1的摻雜物氣體混合物的單一供應源，其中所述負壓輸送和儲存裝置包含由鋁構成的圓筒和閥體，并且進一步地所述閥體的特征在于不存在卸壓裝置。
6.權利要求1的摻雜物氣體混合物的單一供應源，其中所述負壓輸送和儲存裝置包含一個或更多個閥元件和/或選自壓力調節器、止回閥、過流閥和限流孔的限流元件的組合。
7.權利要求5的摻雜物氣體混合物的單一供應源，其中所述負壓輸送和儲存裝置包含串聯布置在所述圓筒內部的一個或更多個壓力調節器。
8.權利要求6的摻雜物氣體混合物的單一供應源，其中所述限流元件包括毛細管。
9.權利要求1的摻雜物氣體混合物的單一供應源，其中所述輸送和儲存裝置包含具有通過鈍化壁表面定義的內部的圓筒。
10.權利要求1的摻雜物氣體混合物的單一供應源，所述輸送和儲存裝置的特征在于其內部未容納吸附介質或離子混合物。
11.輸送用于離子注入的摻雜物氣體組合物的方法，所述方法包括：
響應預定的真空條件啟動一種或更多種的含碳摻雜物源氣體的受控流動；
響應預定的真空條件啟動稀釋劑氣體組合物的受控流動；
將所述一種或更多種的含碳摻雜物源氣體引入離子源腔室內；
將所述稀釋劑氣體組合物引入所述離子源腔室內；
使所述一種或更多種的含碳摻雜物源氣體離子化以生產碳離子；以及
將所述碳離子注入基底；
其中所述一種或更多種的含碳摻雜物源氣體與所述稀釋劑氣體組合物相互作用以減少沿碳離子源的沉積物，而并不引起與純CO相比碳離子束流的大幅減少，
其中所述一種或更多種的含碳摻雜物源氣體包含在第一供應源中的CO并且所述稀釋劑氣體組合物包含在第二供應源中的Xe和H2，其中所述Xe和H2處于在0.02至0.20的范圍內的預定體積比率并且(Xe+H2):CO以在0.10至0.30的范圍內的預定體積比率被包含在內。
12.權利要求11的方法，其進一步地包括預先混合所述CO、氙氣和氫氣的步驟。
13.權利要求11的方法，其進一步包括所述CO流與所述Xe和H2流的協流或依次流動。
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