[發明專利]玻璃陶瓷在審
| 申請號: | 201380066994.0 | 申請日: | 2013-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN104870389A | 公開(公告)日: | 2015-08-26 |
| 發明(設計)人: | M.德格拉齊亞;C.馬萊 | 申請(專利權)人: | 尤羅科拉公司 |
| 主分類號: | C03C10/00 | 分類號: | C03C10/00;C03C17/36 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黃念;林森 |
| 地址: | 法國蒂*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃 陶瓷 | ||
1.玻璃陶瓷片材,在它的至少一個面的至少一部分上被提供有薄層涂層,該薄層涂層包含至少一個由基于金屬鈮Nb的金屬或者基于氧化鈮NbOx的氧化物構成的薄功能層,其中x最多為0.5,所述或者每個薄功能層用至少兩個由電介質材料制成的薄層圍繞,該薄功能層的物理厚度或者必要時所有薄功能層的累積物理厚度在8-15nm的范圍內。
2.根據權利要求1的玻璃陶瓷片材,其中所述或者每個薄功能層由金屬鈮Nb構成。
3.根據前述權利要求任一項的玻璃陶瓷片材,其中該涂層包含僅僅一個薄功能層。
4.根據前述權利要求任一項的玻璃陶瓷片材,其中所述電介質材料,其是相同或者不同的,選自硅、鋁、鈦、鋯、錫、鋅的氧化物、氮化物或者氧氮化物或者它們的混合物或者固溶體的任一種。
5.根據前一權利要求的玻璃陶瓷片材,其中該電介質材料,其是相同或者不同的,基于氮化硅、氧化鈦、氧化鈦鋯、氧化鋅錫、氮化鈦硅、氮化硅鋯或者氧化硅。
6.根據前述權利要求任一項的玻璃陶瓷片材,其中每個電介質材料層的物理厚度為10至100nm,特別地20至80nm。
7.根據前述權利要求任一項的玻璃陶瓷片材,其中薄阻隔體層位于所述或者每個薄功能層上方并與其接觸和/或在其下方并與其接觸。
8.根據前一權利要求的玻璃陶瓷片材,其中所述或者每個薄阻隔體層由鈦制成。
9.根據權利要求7-8任一項的玻璃陶瓷片材,其中所述或者每個薄阻隔體層的物理厚度最多為3納米,特別地2納米。
10.根據前述權利要求任一項的玻璃陶瓷片材,其具有最多為15%,特別地13%的光反射因子,和至少為40%,特別地50%的光透射因子,在標準EN?410:1998的意義上。
11.根據前述權利要求任一項的玻璃陶瓷片材,其具有對于3微米波長至少50%的反射。
12.根據前述權利要求任一項的玻璃陶瓷片材,其中該玻璃陶瓷具有鋁硅酸鋰類型的組成并且包含β-石英結構的晶體。
13.根據前一權利要求的玻璃陶瓷片材,其化學組成在如下定義的以重量百分比計的范圍內包含以下組分:
SiO2???????52-75%,特別地65-70%
Al2O3?????????????18-27%,特別地18-19.8%
Li2O???????2.5-5.5%,特別地2.5-3.8%
K2O?????0-3%,特別地0-<1%
Na2O???????0-3%,特別地0-<1%
ZnO????0-3.5%,特別地1.2-2.8%
MgO????0-3%,特別地0.55-1.5%
CaO????0-2.5%,特別地0-0.5%
BaO????0-3.5%,特別地0-1.4%
SrO????0-2%,特別地0-1.4%
TiO2??????????????1.2-5.5%,特別地1.8-3.2%
ZrO2???????0-3%,特別地1.0-2.5%
P2O5????????0-8%,特別地0-0.5%。
14.烤箱、火爐或者壁爐的門或者窗,其包含至少一個根據前述權利要求任一項的玻璃陶瓷片材。
15.包含至少一個根據前一權利要求的門或者窗的烤箱、火爐或者壁爐。
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