[發明專利]基板處理裝置、器件制造系統及器件制造方法

在審

• 申請號: 201380066736.2
• 申請日: 2013-11-29
• 公開（公告）號: CN104871091A
• 公開（公告）日: 2015-08-26
• 發明（設計）人: 加藤正紀
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/24
• 分類號: G03F7/24;H01L21/027
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;王娟娟

1.一種基板處理裝置，具有：

投影光學系統，其通過來自光罩部件的圖案的第1投影光而在規定的中間像面上形成所述圖案的中間像，且使從所述中間像面向規定的基板行進的第2投影光以再次從所述投影光學系統通過的方式折返，從而在所述基板上形成所述中間像再成像而得到的投影像；以及

光量減少部，其將所述第1投影光的一部分作為泄漏光而投射至所述基板上的光量減少，

所述投影光學系統具有：

入射來自所述圖案的所述第1投影光而形成所述中間像的部分光學系統；以及

導光光學系統，其將從所述部分光學系統射出的所述第1投影光引導至所述中間像面，并將來自所述中間像面的所述第2投影光再次引導至所述部分光學系統，

所述部分光學系統使來自所述中間像面的所述第2投影光再成像，并在所述基板上形成所述投影像。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，

所述部分光學系統包含：供所述第1投影光及所述第2投影光入射的透鏡部件，和將通過了所述透鏡部件的所述第1投影光及所述第2投影光反射的反射光學部件，

來自所述圖案的所述第1投影光入射至所述透鏡部件，由所述反射光學部件反射后，從所述透鏡部件射出，并到達所述中間像面，

來自所述中間像面的所述第2投影光入射至所述透鏡部件，由所述反射光學部件反射后，從所述透鏡部件射出，并到達所述基板上，

所述光量減少部為所述導光光學系統，

所述光量減少部包含：使來自所述圖案的所述第1投影光入射至所述透鏡部件的第1光學部件；使從所述透鏡部件射出的所述第1投影光入射至所述中間像面的第2光學部件；使來自所述中間像面的所述第2投影光入射至所述透鏡部件的第3光學部件；使從所述透鏡部件射出的所述第2投影光入射至所述基板上的第4光學部件，

所述光量減少部使入射至所述透鏡部件的所述第1投影光的第1入射視場、從所述透鏡部件射出的所述第1投影光的第1出射視場、入射至所述透鏡部件的所述第2投影光的第2入射視場、從所述透鏡部件射出的所述第2投影光的第2出射視場相互分離。

3.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，

所述光量減少部使通過所述第2投影光而形成的所述投影像的成像位置和通過所述第1投影光的一部分泄漏光而形成的不良像的成像位置不同。

4.根據權利要求3所述的基板處理裝置，其中，

所述部分光學系統包含：供所述第1投影光及所述第2投影光入射的透鏡部件，和將通過了所述透鏡部件的所述第1投影光及所述第2投影光反射的反射光學部件，

來自所述圖案的所述第1投影光入射至所述透鏡部件，由所述反射光學部件反射后，從所述透鏡部件射出，并到達所述中間像面，

來自所述中間像面的所述第2投影光入射至所述透鏡部件，由所述反射光學部件反射后，從所述透鏡部件射出，并到達所述基板上，

所述光量減少部為所述導光光學系統，

所述光量減少部包含：第1偏振光分束器，該第1偏振光分束器使來自所述圖案的所述第1投影光反射而入射至所述透鏡部件，且使來自所述中間像面的所述第2投影光透過而入射至所述透鏡部件；波片，該波片使從所述第1偏振光分束器射出的所述第1投影光及所述第2投影光偏振；第2偏振光分束器，該第2偏振光分束器使從所述透鏡部件射出并通過了所述波片的所述第1投影光透過而入射至所述中間像面，且使從所述透鏡部件射出并通過了所述波片的所述第2投影光反射而朝向所述基板上；第1光學部件，該第1光學部件使透過了所述第2偏振光分束器的所述第1投影光入射至所述中間像面；第2光學部件，該第2光學部件使來自所述中間像面的所述第2投影光入射至所述第1偏振光分束器；以及第1遮光板，該第1遮光板設于所述第2偏振光分束器與所述基板之間，

所述光量減少部使通過由所述第2偏振光分束器反射的所述第2投影光而形成在所述基板上的所述投影像的成像位置與所述不良像的成像位置在使所述基板掃描的掃描方向上不同，所述不良像是通過不從所述第2偏振光分束器透過而由所述第2偏振光分束器反射的所述第1投影光的一部分泄漏光而形成在所述基板上的像，

所述第1遮光板設于將從所述第2偏振光分束器朝向所述基板的所述泄漏光遮擋的位置。

5.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其中，

所述光量減少部還包含第2遮光板，該第2遮光板遮擋從所述第1偏振光分束器朝向所述第2偏振光分束器的所述泄漏光。