[發明專利]燃料噴射系統的組件

在審

• 申請號: 201380066581.2
• 申請日: 2013-12-10
• 公開（公告）號: CN104870804A
• 公開（公告）日: 2015-08-26
• 發明（設計）人: B·曼克;J·施特雷勒
• 申請（專利權）人: 羅伯特·博世有限公司
• 主分類號: F02M63/00
• 分類號: F02M63/00;F02M61/18;F02M59/10;F02M61/16
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 韓長永

技術領域

本發明涉及燃料噴射系統的組件，其包括至少兩個金屬的子組件。

背景技術

在這類由多個金屬的子組件組成的組件中，腐蝕過程通常導致子組件磨損。這些腐蝕過程是由于分別使用在子組件中的金屬的不同的化學勢引起的。各子組件的在此出現的勢差在相應的環境介質上向該介質的分子施加力，所述環境介質例如在所謂的共軌噴射器的情況下可以是流經那里使用的噴射閥的燃料或者存在于外部環境中的氧，所述力最終引起導致組件的不期望和過早的磨損的腐蝕分解過程。

從現有技術例如從Neidel的“金屬損傷手冊(Handbuch?)”，214至216頁，Carl?Hanser出版社，第二版，慕尼黑2011已知：在由基底材料和蓋層構成的金屬結構中——蓋層具有比基底材料非貴的金屬，在蓋層中出現的裂紋由于基底材料的彈性變形而導致氧積聚在裂紋中并且因此由于在那里開始的腐蝕造成蓋層表面的降解。尤其在設有硬鉻涂層的金屬基底中，蓋層中的裂紋由于基底材料的彈性變形導致氧的積聚和因此導致降解并且因此導致表面的磨損。

發明內容

具有權利要求1的特征部分特征的組件具有的優點是：所述組件具有比現有技術高的耐腐蝕性并且因此具有更長的使用壽命，其方式是，設置使組件的兩個子組件具有勢差的器件，所述勢差反作用于兩個子組件之間的固有勢差，以便補償分別在子組件中使用的不同金屬的不同能級。

由于這兩個子組件例如彼此相對直接相鄰地布置為使得存在直接的機械接觸并且因此也存在允許在兩個子組件之間電子躍遷的電化學接觸，因此這兩個子組件彼此形成電化學作用連接，并且在此根據本發明的一個措施用于構造勢差的勢差補償器件包括施加在所述子組件的僅僅一個的表面上的層，該層由與構成相應的子組件的金屬相比電化學非貴的金屬或合金組成。

為了防止施加在子組件表面上的合金層的機械剝落，合金層可以布置在子組件的一區段中，該區段位于另外的子組件的機械作用區域之外，所述另外的子組件可運動地構造并且在此以例如周期性地或者非周期性地進行的間隔與相鄰并且不可運動地實施的第二子組件在為此所設置的作用區域之內發生機械接觸。

附加地或者替代以上所實施的措施地，用于構造勢差的器件可以包括外部的電壓源，該外部的電壓源與所述組件的兩個相互直接或者間接地相互接觸的子組件連接，以便在很大的程度上抵消在所述組件的兩個子組件之間固有地存在的勢差，其方式是，外部的電壓源一方面電連接在一個子組件上并且另一方面電連接在與所述一個子組件機械和/或電化學接觸的另外的子組件上，其中，由所述外部電壓源產生的電壓這樣設置，使得所述電壓在大小和極性方面反作用于在兩個子組件之間起作用的固有勢差。

在子組件可旋轉運動的情況下可以使用的另一種措施在于，所述器件包括嵌入所述子組件之一中的犧牲陽極，其中，所述犧牲陽極由與相應的分別構成配屬于所述犧牲陽極的子組件和所述另外的子組件的金屬相比電化學非貴的金屬構成。

在本發明的一種構型中，燃料噴射系統的組件構造為閥，其中，第一子組件構造為閥漏斗并且第二子組件構造為可運動地接收在所述閥漏斗中的關閉體，該構型具有的優點是：可以減小在有磨損風險的閥子組件上的、在閥漏斗的大多硬鉻涂層的閥座和可豎直地運動地接收在閥漏斗中的關閉體之間的接觸區域中的腐蝕傾向性并且因此減小磨損。根據一種有利的拓展方案，在此將所述層施加在閥漏斗的表面上并且布置在閥漏斗的一區段上，該區段位于關閉體的直接的機械作用區域上方，其中，該層由相對于所述閥漏斗在電化學方面非貴的合金構成。因此，該層不直接承受由于關閉體的在閥漏斗的底部區域中的閥座上進行的關閉運動引起的直接的機械載荷。符合目的要求地，在此合金層可以作為在閥漏斗的表面上環繞的區段這樣環形地布置，使得所述合金層相對于在關閉體的關閉狀態期間坐置于閥漏斗的閥座中的關閉體布置在關閉體的機械作用區域之外。

替代將層布置在不可運動的閥漏斗的一區段上地，取而代之地，可以將所述層施加在可運動地實施的關閉體的柄區域的表面上，并且因此使得所述層位于關閉體的在關閉過程中承受機械載荷的部分之外。在此，所述層由相對于相應地構成關閉體和閥漏斗的金屬或合金電化學非貴的金屬構成。

替代地或者附加地，為了減小腐蝕傾向，通過外部的電壓源一方面連接在閥漏斗上并且另一方面連接在關閉體上在很大程度上禁止在這兩個子組件之間的電子交換，其中，電壓的高低和其極性根據在子組件中所使用的不同金屬之間的勢差來調節。