[發(fā)明專利]對極化磁場的基于體模的MR場映射

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380066452.3
• 申請日: 2013-12-11
• 公開（公告）號: CN104903740B
• 公開（公告）日: 2019-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J·A·奧弗韋格;K·內(nèi)爾克
• 申請（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: G01R33/24
• 分類號: G01R33/24;G01R33/58
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 李光穎;王英

1.一種用于評估磁共振成像系統(tǒng)(110)的主磁體(114)的磁場的方法，包括以下步驟：

為體模(200)提供被定位在基體(202)中的共振體積(206)的集合，其中，所述基體(202)根據(jù)所述磁共振成像系統(tǒng)(110)的感興趣體積(203)具有球形或橢球的形狀并包括多個環(huán)，并且所述共振體積(206)被定位在所述基體(202)的圓周處，所述共振體積具有球形形狀，

將所述體模(200)定位在所述主磁體(114)內(nèi)，

使用所述磁共振成像系統(tǒng)(110)執(zhí)行對所述體模(200)的3D光譜磁共振測量，在所述3D光譜磁共振測量中，所有空間信息都通過相位編碼梯度來編碼，由此測量所述共振體積(206)的共振，

將測得的共振分配到所述共振體積(206)，并且

基于所述共振體積(206)的測得的共振，根據(jù)對所述體模(200)的所述3D光譜磁共振測量來評估所述主磁體(114)的所述磁場。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，

將測得的共振分配到所述共振體積(206)包括識別空間域中的測得的共振。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，

將測得的共振分配到所述共振體積(206)包括生成針對所述3D光譜磁共振測量內(nèi)的每個共振體積(206)的捕獲區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，

提供體模(200)包括為所述體模(200)提供被布置在不同平面中的所述共振體積(206)的集合，所述平面被布置為平行于彼此。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，

提供體模(200)包括為所述體模(200)提供以到彼此一致的角距離布置的每個平面的所述共振體積(206)的集合。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，

提供體模(200)包括為所述體模(200)提供被布置在不同角位置處的不同平面的所述共振體積(206)的集合。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，

提供體模(200)包括為所述體模(200)提供比所述體模(200)的邊界區(qū)域(210)處的平行平面之間的距離更大的所述體模(200)的中心區(qū)域(208)中的所述平行平面之間的距離。

8.一種磁共振成像系統(tǒng)(110)，包括：

主磁體(114)，其用于生成靜止磁場，

磁梯度線圈系統(tǒng)(122)，其用于生成被重疊到所述靜止磁場的梯度磁場，

檢查空間(116)，其被提供為將感興趣對象(120)定位在內(nèi)，

至少一個射頻天線設(shè)備(140)，其被提供用于將射頻場施加到所述檢查空間(116)以激發(fā)所述感興趣對象(120)的核，以及

控制單元(126)，其用于控制所述至少一個射頻天線設(shè)備(140)的操作，

其中，

所述磁共振成像系統(tǒng)(110)能被配置為執(zhí)行三維磁共振光譜測量，并且

所述控制單元(126)能被配置為執(zhí)行權(quán)利要求1至7中的任一項(xiàng)所述的方法。

9.一種用于評估磁共振成像系統(tǒng)(110)的磁場的場映射系統(tǒng)，包括：

體模(200)，其具有被定位在基體(202)中的共振體積(206)的集合，其中，所述基體(202)根據(jù)所述磁共振成像系統(tǒng)(110)的感興趣體積(203)具有球形或橢球的形狀并包括多個環(huán)，并且所述共振體積(206)被定位在所述基體(202)的圓周處，

控制設(shè)備，其用于操作所述磁共振成像系統(tǒng)(110)，

其中，

所述控制設(shè)備適于使用所述磁共振成像系統(tǒng)(110)來執(zhí)行權(quán)利要求1至7中的任一項(xiàng)所述的方法。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的場映射系統(tǒng)，其中，

所述體模(200)的中心區(qū)域(208)中的平行平面之間的距離比所述體模(200)的邊界區(qū)域(210)處的所述平行平面之間的距離更大。