[發(fā)明專利]缺陷觀察方法以及缺陷觀察裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380066389.3 | 申請日: | 2013-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN104870985A | 公開(公告)日: | 2015-08-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 平井大博;中垣亮;原田實 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社日立高新技術(shù) |
| 主分類號: | G01N23/225 | 分類號: | G01N23/225;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 范勝杰;曹鑫 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 缺陷 觀察 方法 以及 裝置 | ||
1.一種缺陷觀察裝置,其通過比較被檢查圖像與參照圖像來檢測所述被檢查圖像所包含的缺陷區(qū)域,該缺陷觀察裝置的特征在于,
具備:缺陷占有率判定處理部,其求出所述被檢查圖像中缺陷區(qū)域所占的比例即缺陷占有率,并判定該缺陷占有率與閾值的大小,
根據(jù)所述判定的結(jié)果來決定是否生成由具有所述被檢查圖像所包含的多個像素的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷觀察裝置,其特征在于,
當(dāng)所述缺陷占有率高于所述閾值時,所述圖像取得部重新拍攝被推測為不存在缺陷的區(qū)域作為所述參照圖像,
當(dāng)所述缺陷占有率低于所述閾值時,所述參照圖像生成處理部生成由具有所述被檢查圖像所包含的多個像素的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷觀察裝置,其特征在于,
當(dāng)所述缺陷占有率高于所述閾值時,所述參照圖像生成處理部生成由具有在取得所述被檢查圖像前所取得的不包含缺陷的圖像的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像,
當(dāng)所述缺陷占有率低于所述閾值時,所述參照圖像生成處理部生成由具有所述被檢查圖像所包含的多個像素的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的缺陷觀察裝置,其特征在于,
所述參照圖像生成處理部使用多個所述不包含缺陷的圖像來生成所述參照圖像。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷觀察裝置,其特征在于,
當(dāng)所述缺陷占有率高于所述閾值時,所述參照圖像生成處理部生成由具有從在取得所述被檢查圖像前所取得的包含缺陷的圖像中去除了該缺陷的區(qū)域的區(qū)域的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像,
當(dāng)所述缺陷占有率低于所述閾值時,所述參照圖像生成處理部生成由具有所述被檢查圖像所包含的多個像素的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷觀察裝置,其特征在于,
所述缺陷占有率判定處理部根據(jù)所述被檢查圖像所包含的像素的亮度分布來求出所述缺陷占有率。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷觀察裝置,其特征在于,
具有運(yùn)算部,其根據(jù)在取得所述被檢查圖像前所取得的包含缺陷的圖像中的、該缺陷的區(qū)域的亮度分布來求出應(yīng)判斷為缺陷的亮度值范圍,
所述缺陷占有率判定處理部根據(jù)構(gòu)成所述被檢查圖像的像素中在所述亮度值范圍內(nèi)所包含的像素的數(shù)量來求出所述缺陷占有率。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷觀察裝置,其特征在于,
所述缺陷占有率判定處理部根據(jù)通過缺陷的大小來分類的多個組各自包含的多個圖像的平均亮度分布來使用所述閾值。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷觀察裝置,其特征在于,
具備顯示部,其顯示能夠選擇用于生成或取得所述參照圖像的多個方法的畫面。
10.一種缺陷觀察方法,其通過比較被檢查圖像與參照圖像來檢測所述被檢查圖像所包含的缺陷區(qū)域,該缺陷觀察方法的特征在于,
求出所述被檢查圖像中缺陷區(qū)域所占的比例即缺陷占有率,并判定該缺陷占有率與閾值的大小,
根據(jù)所述判定的結(jié)果來決定是否生成由具有所述被檢查圖像所包含的多個像素的亮度值的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的缺陷觀察方法,其特征在于,
當(dāng)所述缺陷占有率高于所述閾值時,重新拍攝被推測為不存在缺陷的區(qū)域作為所述參照圖像,
當(dāng)所述缺陷占有率低于所述閾值時,生成由具有所述被檢查圖像所包含的多個像素的亮度值的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的缺陷觀察方法,其特征在于,
當(dāng)所述缺陷占有率高于所述閾值時,生成由具有在取得所述被檢查圖像前所取得的不包含缺陷的圖像的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像,
當(dāng)所述缺陷占有率低于所述閾值時,生成由具有所述被檢查圖像所包含的多個像素的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的缺陷觀察方法,其特征在于,
使用多個所述不包含缺陷的圖像來生成所述參照圖像。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的缺陷觀察方法,其特征在于,
當(dāng)所述缺陷占有率高于所述閾值時,生成由具有從取得所述被檢查圖像前所取得的包含缺陷的圖像中去除了該缺陷的區(qū)域的區(qū)域的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像,
當(dāng)所述缺陷占有率低于所述閾值時,生成由具有所述被檢查圖像的平均亮度值的像素構(gòu)成的圖像作為所述參照圖像。
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