[發明專利]在后續處理期間實現精確配準的多種油墨的印刷

有效

• 申請號: 201380066201.5
• 申請日: 2013-12-11
• 公開（公告）號: CN104870105B
• 公開（公告）日: 2017-03-01
• 發明（設計）人: 米哈伊爾·L·佩庫羅夫斯基;安·M·吉爾曼;丹尼爾·J·泰斯
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: B05D5/00
• 分類號: B05D5/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司11219
• 代理人: 梁曉廣,關兆輝

相關申請的交叉引用

本申請要求于2012年12月20日提交的美國臨時申請61/739,992的權益，其公開內容全文以引用方式并入本文。

背景技術

制品諸如柔性電子部件或光學部件的制造可涉及沉積或形成在伸長的基底或幅材上的材料層的應用。具體地，材料的圖案可通過多個沉積步驟成層沉積在伸長的基底諸如幅材上。一些制品需要施加在基底的一側或兩側上的特征部的精確配準。

為實現層之間的準確配準，必須在基底移動通過多個制造步驟時，保持橫向(橫維)定位和縱向(順維)定位。當基底是柔性的或可拉伸的時，保持形成在基底上的層之間的配準變得更加復雜。一些制品以多個步驟制成，在這些步驟期間材料或工藝被依次施加到基底，要求每一工序的精確位置配準。

發明內容

本發明公開了通過同時沉積多種油墨到印刷輥上從而在輥對輥工藝中實現精確配準的方法。這些油墨中的一種將基準標記的圖案印刷到基底上，而另一種油墨將預定圖案印刷在相同基底上，使得所述預定圖案將可預測空間關系給予基準標記的圖案。因此，即使形成預定圖案的油墨不可見，或者其與基底的對比度如此之低以致于其幾乎不可見，或者其甚至在后續工序中已被溶解掉，但通過參考基準標記的圖案仍然可以知道預定圖案在哪里。在一些便利的實施例中，在第二操作之后，預定圖案將限定導電電路跡線。在一些其他便利的實施例中，預定圖案將限定防篡改安全標記的至少一個方面。

特別關注其中以可溶油墨印刷預定圖案的實施例。例如，可將導電材料層濺射到印刷基底上，并且然后沖洗該基底以便將可溶油墨移除。這也移除了在可溶油墨之上的濺射層。如果基準標記不可溶于溶劑，就可知道圖案在濺射層中的位置，即使那個圖案不可見，或者即使其與基底的對比度如此之低以致于其幾乎不可見。

在一個實施例中，本發明存在于一種提供具有預定圖案的基底的方法，該方法包括：提供印刷輥、第一油墨分配器和第二油墨分配器；第一油墨分配器和第二油墨分配器被定位成分別在隔開的第一區和第二區中將第一油墨和第二油墨分配到印刷輥上；使用第一油墨分配器將可溶于所選擇的溶劑的第一油墨分配到第一區中，并且使用第二油墨分配器將不可溶于所述所選擇的溶劑的第二油墨分配到第二區中；抵靠印刷輥推進基底，從而使用第二油墨將基準標記印刷到該基底上，同時使用第一油墨將預定圖案印刷到該基底上；在預定圖案之上將導電材料層濺射到基底上；以及使用所述所選擇的溶劑沖洗基底，從而將第一油墨和預定圖案移除，同時在基底上保留基準標記。

在另一個實施例中，本發明存在于一種提供具有預定圖案的基底的方法，該方法包括：提供印刷輥、第一油墨分配器和第二油墨分配器，第一油墨分配器和第二油墨分配器被定位成分別在隔開的第一區和第二區中將第一油墨和第二油墨分配到印刷輥上；將低對比度油墨分配到第一區中，并且將可見油墨分配到第二區中；抵靠印刷輥推進基底，以使用可見油墨將基準標記印刷到該基底上，同時使用低對比度油墨將第一預定圖案印刷到該基底上；隨后，使用基準標記作為引導，在基底上將第二圖案放置成與第一預定圖案配準。在一些便利的實施例中，通過第二印刷操作將第二預定圖案放置成與第一預定圖案配準。在另一個實施例中，通過將附加層層合到基底上來將第二預定圖案放置成與第一預定圖案配準。

在本專利申請中，“對比度”意為表示成通過指定公式計算出的數字的測定量(諸如兩個區域的亮度)的相異程度。這種定義來自ASTM標準E284，“外觀標準術語”。在最廣泛的意義上，“低對比度油墨”為不足以經目測從基底中分辨出來以允許在基底上進行第二操作以便與預定圖案直接配準的任何油墨。結合在以下實例3中所討論的光學測試，呈現了一種更正式的定義。

在本專利申請中，“預定圖案”意為可包括例如線、重復線、跡線、符號、字母、圖、圖形、數字或它們的組合的圖案；意為提前確定或選擇以通過合適的復制方法諸如印刷來放置到基底上的圖案。預定圖案可包括特征部，該特征部具有大小小于20微米、10微米或5微米的尺寸。

在本專利申請中，“基準標記”意為放置到基底上的符號、線、點或其他形狀的圖案，其作為參照點供成像系統用于獲得關于幅材位移、幅材速度或幅材位置的信息。

一旦考慮了包括“具體實施方式”、“實例”和“所附權利要求書”在內的本公開的其余部分，本領域普通技術人員即會更全面了解本發明的實質。

附圖說明