[發明專利]等離子體源

在審

• 申請號: 201380065446.6
• 申請日: 2013-12-09
• 公開（公告）號: CN105144338A
• 公開（公告）日: 2015-12-09
• 發明（設計）人: S·克拉斯尼特澤;J·哈格曼恩
• 申請（專利權）人: 歐瑞康表面解決方案股份公司;特呂巴赫
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張濤;劉春元

1.等離子體產生裝置，包括

-具有等離子體源空心體(1)和電子發射單元(5)的等離子體源，所述電子發射單元使得自由電子能夠發射到等離子體源空心體之中，其中所述等離子體源空心體(1)具有第一氣體入口(7a)和等離子體源開口(10)，所述等離子體源開口構成通向真空室的開口，

-以及具有陽極空心體(2)的陽極，其中所述陽極空心體(2)具有第二氣體入口(7b)和陽極開口(11)，所述陽極開口構成通向真空室的開口，

-和電壓源(8)，所述電壓源的負極與電子發射單元(5)相連并且所述電壓源的正極與陽極空心體(2)相連，

其特征在于，電壓源(8)的正極還通過第一分路電阻(6a)與等離子體源空心體電相連。

2.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置，其特征在于，電壓源(8)的正極通過第二分路電阻(6b)與真空室電相連。

3.根據權利要求1或2中任一項所述的等離子體產生裝置，其特征在于，在等離子體源開口(10)的情況下設置擋板(9p)，利用該擋板能夠在需要時關閉等離子體源開口。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的等離子體產生裝置，其特征在于，在陽極開口(11)的情況下設置擋板(9a)，利用該擋板能夠在需要時關閉陽極開口(11)。

5.根據上述權利要求中任一項所述的等離子體產生裝置，其特征在于，等離子體源開口和/或陽極開口被設計為，使得能夠在運行時通過一個開口和/或這些開口建立超聲流。

6.利用PE-CVD對襯底進行涂層的方法，其中將單體和/或聚合物氣體放入到包括等離子體產生裝置的真空室之中，利用等離子體產生裝置在真空室中建立等離子體，并且對待涂層的襯底施加負電壓，其特征在于，所述等離子體產生裝置是根據權利要求5所述的等離子體產生裝置，并且不會通過該等離子體產生裝置對等離子體空心體的內腔進行涂層，也不會對陽極空心體的內腔進行涂層。