[發明專利]用于調節和控制氣體壓力的裝置和方法

有效

• 申請號: 201380065369.4
• 申請日: 2013-10-10
• 公開（公告）號: CN104854218B
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發明（設計）人: 馬丁·赫希邁爾;邁克爾·博恩;曼弗雷德·丹賴特;弗朗茨·利澤威茨;德雷真·加日克
• 申請（專利權）人: DMT有限責任兩合公司
• 主分類號: C10B27/06
• 分類號: C10B27/06
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟;楊生平

1.一種用于調節或者控制煉焦爐組的各個爐(1)的單個氣體壓力的裝置，其中，上升管彎頭(4)的下端通過水密封(9)，與浸入管(12)連接，所述浸入管(4)被支撐從而使得所述浸入管可通過致動器(19)垂直調節，其特征在于，為了導致壓力的變化，所述浸入管(12)可浸入位于所述浸入管(12)下方的浸沒杯(21)內不同的深度，所述上升管彎頭(4)內布置有用于定位所述浸入管(12)的套筒(16)并且套筒(16)的下端通過至少一個導管(17)連接到水密封(9)，并且在所述上升管彎頭外面、頂部提供用于供給水密封(9)的供水系統(20)和致動器(19)。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，水密封(9)是水迷宮式密封。

3.根據權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述上升管彎頭(4)伸入集流管(7)內。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述浸沒杯(21)具有溢流邊緣(36)并且當所述裝置運轉時浸沒杯(21)被填充到所述邊緣。

5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述套筒(16)內布置有浸沒杯(21)的定位裝置(27)。

6.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述定位裝置(27)在其上端裝備有致動器(28)。

7.根據前述權利要求5或6中的至少一項所述的裝置，其特征在于，所述定位裝置(27)被實施為管并在其上端具有供水系統(29)。

8.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述定位裝置(27)具有至少一個排水口(30)。

9.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述定位裝置(27)的下端通過連接件(31)鉸接在浸沒杯(21)上。

10.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，以垂直可變的方式，套筒(16)與上升管彎頭(4)封離。

11.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，以垂直可變的方式，定位裝置(27)與套筒(16)封離。

12.一種用于調節或者控制煉焦爐組的各個爐(1)的單個氣體壓力的方法，根據該方法，上升管彎頭(4)的下端上密封地布置有用于調節或者控制氣體壓力的浸入管(12)，所述浸入管(12)的位置改變從而使得所述浸入管(12)的下端浸入水中，其特征在于，位于所述浸入管(12)下方的浸沒杯(21)連續地填充有水從而使得水流過所述浸沒杯(21)的溢流邊緣(36)并建立恒定的水位，相對于所述恒定的水位，調整所述浸入管(12)的下端以便調節或者控制所述氣體壓力。