[發(fā)明專(zhuān)利]透明聚酰亞胺基板及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380065363.7
• 申請(qǐng)日: 2013-12-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104854173A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-08-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 禹學(xué)龍;鄭鶴基;樸曉準(zhǔn)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 可隆工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): C08J7/04
• 分類(lèi)號(hào): C08J7/04;C08J5/18;C09D175/00;G02B1/10
• 代理公司: 北京鴻元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327
• 代理人: 李靜;黃麗娟

1.一種透明聚酰亞胺基板，包括透明聚酰亞胺膜和在該透明聚酰亞胺膜的至少一個(gè)表面上形成的聚異氰酸酯固化層，該聚異氰酸酯含有丙烯酸酯基并且每分子含有2至5個(gè)異氰酸酯基。

2.如權(quán)利要求1所述的透明聚酰亞胺基板，其中，所述聚異氰酸酯由下面化學(xué)式1表示：

化學(xué)式1

其中，R為

其中，n為0至5的整數(shù)，m為1至5的整數(shù)，R₁為氫原子或具有1至3個(gè)碳原子的烷基，R₂為具有1至5個(gè)碳原子的烷基。

3.如權(quán)利要求1所述的透明聚酰亞胺基板，其中，所述固化層的厚度為1.0至20.0μm。

4.如權(quán)利要求1所述的透明聚酰亞胺基板，該透明聚酰亞胺基板還包括在所述透明聚酰亞胺膜和所述固化層之間形成的硅氧化物層，該硅氧化物層包含由下面化學(xué)式2表示的單元結(jié)構(gòu)：

化學(xué)式2

其中，m和n各自為0至10的整數(shù)。

5.如權(quán)利要求4所述的透明聚酰亞胺基板，其中，所述硅氧化物層的厚度為0.3至2.0μm。

6.一種透明聚酰亞胺基板的制備方法，包括如下步驟：

將包含聚異氰酸酯的溶液涂布在透明聚酰亞胺膜的至少一個(gè)表面上，所述聚異氰酸酯含有丙烯酸酯基并且每分子含有2至5個(gè)異氰酸酯基；干燥該涂布的溶液，從而形成涂層；以及

固化該涂層，形成固化層。

7.如權(quán)利要求6所述的制備方法，其中，所述聚異氰酸酯由下面化學(xué)式1表示：

化學(xué)式1

其中，R為

其中，n為0至5的整數(shù)，m為1至5的整數(shù)，R₁為氫原子或具有1至3個(gè)碳原子的烷基，R₂為具有1至5個(gè)碳原子的烷基。

8.如權(quán)利要求6所述的制備方法，其中，所述包含聚異氰酸酯的溶液還包含選自安息香醚光引發(fā)劑、二苯甲酮光引發(fā)劑以及其組合中的光引發(fā)劑。

9.如權(quán)利要求6所述的制備方法，其中，固化涂層以形成固化層的步驟是通過(guò)用具有312nm或365nm短波長(zhǎng)的紫外線以1500至10000J/m²的劑量照射該涂層來(lái)進(jìn)行的。

10.如權(quán)利要求6所述的制備方法，其中，在將所述溶液涂布在透明聚酰亞胺膜的至少一個(gè)表面上的步驟之前，該方法還包括將包含聚硅氮烷的溶液涂布在透明聚酰亞胺膜上、干燥該涂布的聚硅氮烷溶液以及固化該聚硅氮烷以形成硅氧化物層的步驟。

11.如權(quán)利要求10所述的制備方法，其中，所述聚硅氮烷包含由下面化學(xué)式3表示的單元結(jié)構(gòu)，所述硅氧化物層包含由下面化學(xué)式2表示的單元結(jié)構(gòu)：

化學(xué)式2

其中，m和n各自為0至10的整數(shù)；

化學(xué)式3

其中，m和n各自為0至10的整數(shù)。

12.如權(quán)利要求10所述的制備方法，其中，固化所述聚硅氮烷以形成硅氧化物層的步驟通過(guò)在200至300℃的溫度下熱處理該聚硅氮烷來(lái)進(jìn)行。